[发明专利]一种钛合金微弧氧化陶瓷膜层的制备方法在审
| 申请号： | 201610391770.2 | 申请日： | 2016-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN107460520A | 公开（公告）日： | 2017-12-12 |
| 发明（设计）人： | 宋若希;庄俊杰;宋仁国;孔德军;李红霞;熊缨 | 申请（专利权）人： | 宁波瑞隆表面技术有限公司 |
| 主分类号： | C25D11/26 | 分类号： | C25D11/26 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315177 浙江省宁波*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 钛合金 氧化 陶瓷膜 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种钛合金微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
（1）配置电解液，电解液的组成浓度为：六偏磷酸钠20-40 g/L，钼酸钠5-20 g/L，氢氧化钾2-5 g/L，甘油10-30 g/L；
（2）采用直流脉冲微弧氧化装置对清洁后的钛合金表面进行微弧氧化，电流密度为5-15 A/dm2，频率为400 HZ，占空比为4%，温度控制在20-30℃，不断搅拌下恒流微弧氧化时间为10-30 min。
2.根据权利要求1所述的钛合金微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于，步骤（1）中电解液的组成浓度为：六偏磷酸钠30 g/L，钼酸钠10 g/L，氢氧化钾3 g/L，甘油15 g/L。
3.根据权利要求1所述的钛合金微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于，步骤（2）中电参数为：电流密度为10 A/dm2，频率为400 HZ，占空比为4%，不断搅拌下恒流微弧氧化时间为15 min。
4.根据权利要求1所述的钛合金微弧氧化陶瓷膜层的制备方法，其特征在于，所述钛合金为TC10、TC4等常用钛合金。
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