[发明专利]流体处理装置及其制备方法

权利要求书

1.一种流体处理装置，其特征在于包括：

具有第一流体通道的基体，所述第一流体通道具有流体入口和流体出口，所述第一流体通道的流体入口分布于所述基体的第一表面的第一区域内；

流体阻挡部，具有与所述基体的第一表面相对设置的第二表面，用于阻止待处理流体直接进入所述第一流体通道的流体入口；

彼此间隔设置的复数个凸起部，所述凸起部一端固定设置于所述基体的第一表面的第二区域内，另一端与所述流体阻挡部的第二表面固定连接，其中相邻凸起部之间的距离大于0但小于混杂于待处理的流体内的选定颗粒的粒径，所述基体的第一表面的第二区域与第一区域邻接，从而使所述复数个凸起部、流体阻挡部与基体之间配合形成第二流体通道，且待处理的流体仅能通过所述第二流体通道进入第一流体通道；

所述复数个凸起部环绕所述第一流体通道的流体入口设置；所述基体的第一表面的第三区域内亦间隔设置有复数个凸起部，所述第二区域设于所述第三区域和第一区域之间；所述基体的第一表面的第一区域及第二区域分布在所述流体阻挡部与所述基体的第一表面上的正投影内；所述流体处理装置还包括至少一个支撑体，所述支撑体为两个以上，所述支撑体一端与所述基体固定连接，另一端与所述流体阻挡部固定连接，并且该两个以上所述的支撑体对称分布于所述第一流体通道的流体入口周围；

所述基体的第一表面的第三区域环绕所述第二区域设置；

所述第一流体通道的流体入口上架设有一根以上支撑梁，所述支撑梁与所述流体阻挡部固定连接；

所述凸起部为站立设置的线状、柱状、片状、管状、锥状、锥台状结构中的任意一种；

所述凸起部的横向截面具有规则或不规则形状，所述规则形状包括多边形、圆形或椭圆形；

所述的复数个凸起部均匀分布或非均匀分布在所述基体的第一表面上；

所述第一流体通道的流体入口具有规则或不规则形状，所述规则形状包括多边形、圆形或椭圆形。

2.根据权利要求1所述的流体处理装置，其特征在于：所述凸起部为线状凸起，其长径比为4：1～200000：1；和/或，相邻凸起部之间的距离与所述凸起部的长度的比值为1：4～1：200000。

3.根据权利要求2所述的流体处理装置，其特征在于：所述凸起部为竖立设置的微米线或纳米线，其直径为1nm～50μm，长度为50nm～200μm，相邻凸起部之间的距离为1nm～50μm。

4.根据权利要求1或3所述的流体处理装置，其特征在于：分布于所述基体的第一表面的第三区域的复数个凸起部排布形成具有超疏水或超疏油性能的微米级或纳米级阵列结构。

5.根据权利要求1所述的流体处理装置，其特征在于：所述第一流体通道的孔径为1μm～1mm；和/或，所述基体的厚度在1μm以上；和/或，所述流体阻挡部的厚度为0.5μm～200μm；和/或，所述凸起部表面还设置有功能材料层，所述功能材料层的材质包括光催化材料或抗菌材料；和/或，所述流体处理装置中的至少部分组件的至少局部为透明结构。