[发明专利]一种二氧化钒多层膜及其制备方法有效
申请号: | 201610408843.4 | 申请日: | 2016-06-12 |
公开(公告)号: | CN107487991B | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
发明(设计)人: | 金平实;曹逊;孙光耀;李荣;包山虎 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;C04B41/52;C23C14/35;C23C14/08 |
代理公司: | 31261 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 曹芳玲;郑优丽<国际申请>=<国际公布> |
地址: | 200050上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 多层 及其 制备 方法 | ||
1.一种二氧化钒多层膜,其特征在于,所述二氧化钒多层膜由通过溅射法依次形成在衬底的上的籽晶层、缓冲层、二氧化钒薄膜层以及保护层构成;所述籽晶层采用氧化锌或掺杂氧化锌;所述缓冲层为二氧化钛、氧化锡、氧化铌、氧化铟中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的二氧化钒多层膜,其特征在于,所述衬底为玻璃、蓝宝石、单晶硅、单晶锗、二氧化钛或金属单质衬底中的一种。
3.根据权利要求1所述的二氧化钒多层膜,其特征在于,籽晶层采用氧化锌、氧化锌铝、氧化锌镓中的至少一种,厚度为5~200nm。
4.根据权利要求1所述的二氧化钒多层膜,其特征在于,缓冲层的厚度为10~300nm。
5.根据权利要求1所述的二氧化钒多层膜,其特征在于,二氧化钒薄膜层为纯相的单斜相或四方相二氧化钒,厚度为30~300nm。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的二氧化钒多层膜,其特征在于,保护层为氧化铝、二氧化钛或氧化硅薄膜中的至少一种,厚度为5~400nm。
7.一种权利要求1至6中任一项所述的二氧化钒多层膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:衬底清洗;在衬底上溅射籽晶层;在籽晶层上溅射缓冲层;在缓冲层上溅射二氧化钒薄膜层;在二氧化钒薄膜层上溅射保护层,其中,所述溅射采用磁控溅射方法。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述磁控溅射方法为直流或中频磁控溅射,溅射靶材为陶瓷靶,溅射气体为纯氩气。
9.根据权利要求7或8所述的制备方法,其特征在于,衬底温度180~380℃,氩气沉积全压0.5~5.0Pa。
10.一种权利要求1至6中任一项所述的二氧化钒多层膜在制备热致变色智能调光玻璃中的应用。
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