[发明专利]一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法

权利要求书

1.一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法，其特征在于通过以下步骤实现：

第一步，将固含量＜6％的水玻璃溶液通过阳离子交换，得到原硅酸溶液；

第二步，制备酸性的活化原硅酸溶液，

在第一步得到的原硅酸溶液中加入无机酸至PH为1～2，陈化后再经阴离子交换和阳离子交换，得到酸性的活化原硅酸溶液；

第三步，制备碱性的活化原硅酸溶液，

在第二 步 得到的酸性的活化原硅酸溶液中添加无机碱，调整其PH至8～10，得到碱性的活化原硅酸溶液；

第四步，制备活性晶种溶胶，

用第三步得到的碱性的活化原硅酸溶液做底液，采用恒液面法向其中滴加第二步得到的酸性的活化原硅酸溶液，经过5～8小时，当底液中出现淡蓝色乳光，即可得到活性晶种溶胶；

第五步，制备活性晶种/层状硅酸盐悬浮液，

A5.1、制备均匀的水系层状硅酸盐悬浮液；

A5.2、将步骤A5.1得到的层状硅酸盐悬浮液与第四步得到的活性晶种溶胶混合均匀得到活性晶种/层状硅酸盐悬浮液；

第六步，将第五步得到的活性晶种/层状硅酸盐悬浮液做底液，采用恒液面法向其中滴加第二步得到的酸性的活化原硅酸溶液，得到二氧化硅修饰层状硅酸盐悬浮液；

第七步，将第六步得到的二氧化硅修饰层状硅酸盐悬浮液固液分离、干燥，得到二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体。

2.根据权利要求1所述的一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法，其特征在于：所述第四步中恒液面法温度范围为60～90℃。

3.根据权利要求1所述的一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法，其特征在于：所述步骤A5.2中活性晶种/层状硅酸盐悬浮液中的层状硅酸盐与活性晶种的质量比为0.2～1:1。

4.根据权利要求1所述的一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法，其特征在于：所述第六步中恒液面法温度范围为60～90℃，酸性的活化原硅酸溶液加入量及添加速率为20～50小时滴加活性晶种/层状硅酸盐悬浮液体积的3～5倍。

5.根据权利要求1所述的一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法，其特征在于：所述步骤A5.1中将层状硅酸盐加入到去离子水中，分散至形成均匀的悬浮液层状硅酸盐与去离子水质量在1：10～20。

6.根据权利要求1所述的一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法，其特征在于：所述第二步中陈化温度为室温，陈化时间不短于24小时。

7.根据权利要求1所述的一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法，其特征在于：所述第二步中阴离子交换和阳离子交换的通过次数以各一次为最佳，也可多次过柱，最后一次为阳离子交换。

8.根据权利要求1所述的一种二氧化硅修饰层状硅酸盐粉体的方法，其特征在于：所述第一步中水玻璃溶液固含量为3～5％。