[发明专利]一种有机分子二维有序结构及其制备方法有效
申请号: | 201610444711.7 | 申请日: | 2016-06-20 |
公开(公告)号: | CN107523290B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 魏倩;江鹏;周二军;杨镜奎;刘晓平 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | C09K11/06 | 分类号: | C09K11/06;H01L51/00;H01L51/50;H01L51/54;H01L51/42;H01L51/46 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋;侯桂丽 |
地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 分子 二维 有序 结构 及其 制备 方法 | ||
1.一种有机分子二维有序结构,其特征在于,由噻吩连接的苝类化合物在衬底表面沿能量最低的方向堆积而成;
所述衬底为高温热解石墨或金;
噻吩连接的苝类化合物为如下结构的苝酰亚胺衍生物PDI-T、PDI-T-Br、D1、D2、D3或其两种或更多种的组合,
2.根据权利要求1所述的二维有序结构,其特征在于,所述的二维有序结构的长度为10nm-400nm,宽度为10nm-400nm。
3.根据权利要求1所述的二维有序结构,所述二维有序结构的晶胞参数为a=1.1-3.0nm,b=1.1-3.5nm,α=60-100°。
4.根据权利要求3所述的二维有序结构,所述二维有序结构的晶胞参数为a=1.4-2.7nm,b=1.7-2.6nm,α=65-90°。
5.根据权利要求1所述的二维有序结构,其特征在于,所述噻吩连接的苝类化合物在衬底表面形成单层二维有序结构。
6.根据权利要求1所述的二维有序结构,其特征在于,所述噻吩连接的苝类化合物在衬底表面形成旋转畴结构。
7.根据权利要求6所述的二维有序结构,其特征在于,不同取向的畴之间成60°或120°夹角。
8.一种如权利要求1所述有机分子二维有序结构的制备方法,包括如下步骤:
(1)将噻吩连接的苝类化合物分散溶解于溶剂中,得到噻吩连接的苝类化合物溶液;
(2)将噻吩连接的苝类化合物溶液滴到衬底表面,待溶液在表面扩散稳定后即可得到噻吩连接的苝类化合物二维有序结构;
其中,步骤(1)中噻吩连接的苝类化合物为如下结构的苝酰亚胺衍生物PDI-T、PDI-T-Br、D1、D2、D3或其两种或更多种的组合,
步骤(2)中所述衬底为高温热解石墨。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述溶剂为可溶解噻吩连接的苝类化合物的有机溶剂。
10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述有机溶剂为正辛基苯、正十四烷、二氯甲苯、氯仿、甲醇中的1种或2种以上的组合。
11.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述分散在室温下进行。
12.根据权利要求11所述的制备方法,其特征在于,所述分散在10-35℃。
13.根据权利要求12所述的制备方法,其特征在于,所述分散在10-28℃下进行。
14.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述苝类化合物的纯度≥98%。
15.根据权利要求14所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述苝类化合物的纯度≥99%。
16.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述噻吩连接的苝类化合物溶液的浓度为0.01-1mg/ml。
17.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述噻吩连接的苝类化合物溶液配制时用超声进行分散。
18.根据权利要求17所述的制备方法,其特征在于,超声的功率为50W以上。
19.根据权利要求18所述的制备方法,其特征在于,超声的功率为100W以上。
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