[发明专利]等离子体处理系统中的混合模式脉冲蚀刻有效
| 申请号： | 201610451176.8 | 申请日： | 2012-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN105895490B | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 克伦·雅克布卡纳里克 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 樊英如;张静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 系统 中的 混合 模式 脉冲 蚀刻 | ||
【说明书】：
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