[发明专利]金属制杯的镀膜方法

说明书

本发明是有关于一种金属制杯的镀膜方法，其主要于操作环境下设有转架，该转架内对应放置欲镀膜的金属杯体，且该转架一侧对应设有欲镀金属靶材，并于靶材与转架之间设有气道治具，该气道治具上设有气嘴对应喷导惰性气体于金属杯体，经由环境升温至一定值后起弧放电，电弧撞击靶材而使其流离化，并配合靶材对应角度及气道治具所导出的惰性气体反应，而让靶材金属化合物沉积于杯体表面；通过上述步骤，达到均匀镀膜的工艺。

技术领域

本发明是有关于一种金属制杯的镀膜方法，尤指一种选择利用物理气相沉积技术进行表面加工的离子镀膜设备和镀膜方法。

背景技术

电弧离子镀是物理气相沉积技术的一种，其是将真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术，此方法利用电弧撞击靶材，使靶材原子被激发出来，与惰性气体反应，形成化合物沉积于工件表面的一种技术。在电弧离子镀技术中，靶材既是阴极材料的蒸发源，又是发射电浆的离子源。由于电弧离子镀具有离化率高、均匀的披覆性以及最佳的密着性、所制备的薄膜与基材的结合力好等优点，大多被应用在金属的硬质镀膜上，特别是要求耐磨耗的对象上。

在金属材料中可被使用于杯、瓶制作的除了不锈钢之外，亦有其他高强度、低质量、耐高温、耐低温、抗强酸、抗强碱等优质特性的金属材质；然而，传统金属钢杯镀膜时，大致上均为在未整体成型前进行镀膜，以利用镀膜技术将优质金属材质溅镀于钢杯表面，而于镀膜完成后再经由成型加工如旋伸压或焊接杯底及内外杯结合等等工艺来完成杯子成品；而上述的工艺会导致加工过程破坏镀膜，而使镀膜的表面受损产生不良品。然后，杯子于镀膜之后，基本上会呈现覆膜金属的原色，因此，杯子表面的变化不多，或需再另外覆膜图样，增加工艺步骤与成本花费，而上述问题与缺失，为急需研究突破的课题之一。

本发明乃秉持多年该相关行业的丰富设计开发及实际制作经验，针对现有的结构再予以研究改良，提供一种金属制杯的镀膜方法，以期达到更佳实用的的目的。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种金属制杯的镀膜方法，尤其是指一种利用物理气相沉积技术进行表面均匀镀膜的离子镀膜设备和镀膜方法。

本发明金属制杯的镀膜方法主要目的与功效，是由以下具体技术手段所达成：

其主要于操作环境下设有转架，该转架内对应放置欲镀膜的金属杯体，且该转架一侧对应设有欲镀金属靶材，并于靶材与转架之间设有气道治具，该气道治具上设有气嘴对应喷导惰性气体于金属杯体，以经由环境升温至一定值后起弧放电，电弧撞击靶材而使其流离化，并配合靶材对应角度及气道治具所导出的惰性气体反应，而让靶材金属化合物沉积于杯体表面；通过上述步骤，以达均匀镀膜的工艺。

本发明金属制杯的镀膜方法的较佳实施例，其中，该靶材选用铝、不锈钢、钨、金、铟、钛、钛硅、镍、铬或钛铝中的一种。

本发明金属制杯的镀膜方法的较佳实施例，其中，该金属杯体为选用已加工成形后的金属杯体。

本发明金属制杯的镀膜方法的较佳实施例，其中，该转架与气道治具均会转动，且可经由可程控设定该气道治具的气嘴对应每一金属杯体的杯口喷气停留3-5秒钟。

本发明金属制杯的镀膜方法的较佳实施例，其中，该真空炉内抽取的真空度维持在8.5×10^-3Pa，而于离子反应时以致发生镀膜，其炉内真空度为1.0×10^-1Pa。

由上述的组件组成与实施说明可知，本发明与现有技术相较之下，本发明具有以下的优点：

1.本发明金属制杯的镀膜方法，利用已加工成形后的金属杯体来进行离子镀膜，使其能保持镀膜后亮丽的膜层，达到保持产品美观的功效。

2.本发明金属制杯的镀膜方法，利用增加不同惰性气体而能改变离子镀膜后的金属杯体表面金属镀膜的色泽，达到让产品多色变化，符合大众需求，且也具有节省工艺成本等优点。

附图说明