[发明专利]一种石墨烯光纤的原位直接制备方法有效

专利信息
申请号: 201610475338.1 申请日: 2016-06-24
公开(公告)号: CN107540245B 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 刘忠范;陈珂 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: C03C25/44 分类号: C03C25/44;C03B37/02
代理公司: 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 代理人: 王宇杨;陈琳琳
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨 光纤 原位 直接 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种石墨烯光纤的原位直接制备方法,包括如下步骤:

1)在光纤拉丝机上安装化学气相沉积设备,并将经拉丝机拉出的多孔光纤置于所述化学气相沉积设备腔体中,在惰性气氛保护下升温至1100-1700℃;

2)保持步骤1)所述温度恒定不变,向步骤1)所述设备腔体中通入碳源和氢气进行化学气相沉积反应,反应完毕后关闭碳源并快速降至室温,得到所述石墨烯光纤。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述步骤1)中,拉丝法得到的多孔光纤的材质为石英和混合氟化物中任一种。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述化学气相沉积设备为热壁化学气相沉积设备、冷壁化学气相沉积设备中任一种。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述惰性气氛为氩气或含5%体积分数氢气的氢氩混合气。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:

所述碳源为甲烷、乙烯、丙烯、乙炔和乙醇中任一种;

所述化学气相沉积反应步骤中,碳源气体和氢气的体积比为1-5:5。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述化学气相沉积反应压强为200帕-1.01×105帕;反应时间为30分钟-120分钟。

7.根据权利要求1-6任一所述的方法,其特征在于:所得到的石墨烯光纤为多孔光纤上原位生长石墨烯的复合结构;

所述多孔光纤的内和外表面均覆盖连续的石墨烯薄膜,覆盖度为100%。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述石墨烯光纤中的石墨烯厚度均匀,且1-10层可调。

9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述石墨烯光纤中的石墨烯表面不含富氧官能团和金属杂质残留。

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