[发明专利]等离子体蚀刻装置有效
| 申请号： | 201610482830.1 | 申请日： | 2016-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN106298423B | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 安东尼·P·威尔比;斯蒂芬·R·伯吉斯;I·蒙克里夫;保罗·登斯利;C·L·威迪克斯;保罗·理查;阿德里安·托马斯 | 申请（专利权）人： | SPTS科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 张铮铮;姚开丽 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子体 蚀刻 装置 | ||
【权利要求书】：
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