[发明专利]光刻机动态调平调焦方法有效

专利信息
申请号: 201610498133.5 申请日: 2016-06-29
公开(公告)号: CN107544213B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 许伍;廖飞红;季采云 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光刻 机动 平调 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻机动态调平调焦方法,其特征在于,包括:

工件台在交接位承载工件,并向对准位开始步进;

在工件台匀速运动过程中,采用动态调平调焦装置对工件的垂向高度进行扫描测量,所述动态调平调焦装置安置于工件台交接位与对准位之间;

通过信号处理器处理上述扫描信息,同时获得工件的表面水平信息和焦面信息;

对工件台上的工件进行调平调焦。

2.如权利要求1所述的光刻机动态调平调焦方法,其特征在于,所述工件台在匀速运动至稳定后,再由动态调平调焦装置进行扫描测量。

3.如权利要求1所述的光刻机动态调平调焦方法,其特征在于,对所述工件设置至少3个扫描光斑,所述扫描光斑的排列的方向垂直于工件台的运动方向。

4.如权利要求3所述的光刻机动态调平调焦方法,其特征在于,所述动态调平调焦装置沿与工件台运动方向相反的方向对工件进行光斑扫描,获得扫描信息。

5.如权利要求4所述的光刻机动态调平调焦方法,其特征在于,所述信号处理器根据扫描信息中被测点的坐标值拟合理想工件的垂向姿态。

6.如权利要求5所述的光刻机动态调平调焦方法,其特征在于,根据平面方程式(1)计算得到方程组式(2):

Z=-Ryx+Rxy+Z0 (1)

其中,(Xi,Yi,Zi)为被测点坐标值,i≥3;

采用最小二乘法求解方程组式(2),得到拟合的工件垂向姿态PFLS(Z0,Rx,Ry),并根据式(3)求得被测点处的工件位置姿态PP-Ws

Pp-Ws=PFOCUS-PFLS (3)

其中,PFOCUS为焦平面的位置,坐标值为(Z1,Rx1,Ry1)。

7.如权利要求6所述的光刻机动态调平调焦方法,其特征在于,所述工件台垂向电机根据所述工件位置姿态PP-Ws,驱动工件完成垂向位置的全局调平调焦运动。

8.如权利要求1所述的光刻机动态调平调焦方法,其特征在于,所述动态调平调焦装置包括:实时调平调焦测量传感器和沿所述实时调平调焦测量传感器对称布置的两个垂向测量传感器。

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