[发明专利]在硅片上制备均匀微纳复合绒面的方法有效
申请号: | 201610500930.2 | 申请日: | 2016-06-30 |
公开(公告)号: | CN106206774B | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 袁丽娟;杨立功 | 申请(专利权)人: | 常州时创能源科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 213300 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硅片 制备 均匀 复合 方法 | ||
1.在硅片上制备均匀微纳复合绒面的方法,其特征在于,包括:制绒,以及制绒后的清洗;
所述制绒包括:将硅片置于制绒液中,在30~70℃浸泡1~30min,得到具有微纳复合绒面的硅片;
所述制绒后的清洗包括:对硅片进行制绒后的清洗,除去硅片表面残留的金属纳米颗粒;
所述制绒液由0.1~60mmol/L铜离子源、0.05~20mol/L氢氟酸、0.01~5mol/L氧化剂、0.001μmol/L~10mmol/L表面活性剂和去离子水组成;
所述铜离子源选自氯化铜和硫酸铜;
所述氧化剂选自过硫酸盐、硝酸、过硫酸氢盐、硝酸盐、焦磷酸盐、磷酸盐;
所述表面活性剂选自磺酸盐类表面活性剂、硫酸酯盐类表面活性剂、聚丙烯酸-丙烯酰胺-磺酸盐聚合物、聚吡咯烷酮、季铵盐类表面活性剂、咪唑啉季铵盐、吡咯烷酮、氨基酸类表面活性剂、氧化胺类表面活性剂、乙二胺四乙酸、烷基醇酰胺;
所述磺酸盐类表面活性剂选自脂肪酸甲酯磺酸钠、烷基二苯醚二磺酸盐、椰油基羟基乙烷磺酸盐;
所述硫酸酯盐类表面活性剂选自月桂醇硫酸酯钠、月桂醇聚氧乙烯醚硫酸钠、甘油单酸酯二硫酸钠;
所述聚丙烯酸-丙烯酰胺-磺酸盐聚合物选自丙烯酸-丙烯酸酯-磺酸盐三元共聚物、丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸盐共聚物;
所述聚吡咯烷酮选自聚乙烯吡咯烷酮、乙烯基吡咯烷酮-乙烯酯共聚物;
所述季铵盐类表面活性剂选自双十六烷基二甲基溴化铵、二甲基十八烷基氯化铵、聚二甲基二烯丙基氯化铵、甲基三辛基氯化铵;
所述咪唑啉季铵盐选自单咪唑啉季铵盐、双咪唑啉季铵盐;
所述吡咯烷酮选自2-吡咯烷酮、N-辛基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮、N-十六烷基吡咯烷酮、1-甲基-2-吡咯烷酮;
所述氨基酸类表面活性剂选自十二烷基二亚甲基氨基二甲酸钠、十二烷基氨基丙酸钠;
所述氧化胺类表面活性剂选自十二烷基二甲基氧化胺、月桂酰基丙基氧化胺、椰油酰胺丙基氧化胺;
所述烷基醇酰胺选自月桂酰二乙醇胺、N,N-双羟乙基十二烷基酰胺、十二烷基醇酰胺。
2.根据权利要求1所述的在硅片上制备均匀微纳复合绒面的方法,其特征在于,所述制绒后的清洗,包括如下具体步骤:将制绒后的硅片置于质量百分比浓度为0.5%的NaOH溶液中,温度控制在60℃,浸泡20~30秒;再将硅片置于质量百分比浓度为20%~69%的硝酸溶液中,室温浸泡60秒;再将硅片置于酸性清洗液中,温度控制在60~80℃,浸泡60秒;再将硅片置于质量百分比浓度为2%~40%的氢氟酸溶液中,室温浸泡30秒;
所述酸性清洗液由氯化氢、过氧化氢和去离子水组成,其中氯化氢的质量百分比为3%~5%,过氧化氢的质量百分比为2%~4%,余量为去离子水。
3.根据权利要求1或2所述的在硅片上制备均匀微纳复合绒面的方法,其特征在于,还包括制绒前的清洗。
4.根据权利要求3所述的在硅片上制备均匀微纳复合绒面的方法,其特征在于,所述制绒前的清洗,包括如下具体步骤:先将硅片置于30~80℃的碱性清洗液中清洗10min,再置于去离子水中清洗;
所述碱性清洗液由氢氧化钠、过氧化氢和去离子水组成,其中氢氧化钠的质量百分比为3%~12%,过氧化氢的质量百分比为2%~21%,余量为去离子水。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的