[发明专利]一种实钻约束的三维地震资料长波长静校正方法有效
申请号: | 201610505646.4 | 申请日: | 2016-06-30 |
公开(公告)号: | CN105911592B | 公开(公告)日: | 2017-11-10 |
发明(设计)人: | 杨城增;金宁宁;梁殿文;冯永强;金东民 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司华北油气分公司勘探开发研究院 |
主分类号: | G01V1/48 | 分类号: | G01V1/48 |
代理公司: | 郑州睿信知识产权代理有限公司41119 | 代理人: | 陈浩 |
地址: | 100728 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 约束 三维 地震 资料 波长 校正 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种实钻约束的三维地震资料长波长静校正方法,属于地震资料处理技术领域。
背景技术
静校正是地震资料常规处理技术的基础,是指进行激发和接收条件变化所引起的时差校正。根据静校正量的波长变化对剖面的影响,一般把静校正分为短波长静校正和长波长静校正,这里的长波长静校正也包括中波长静校正。静校正量分为短波长高频分量和长波长低频分量,长波长低频分量是由低速带在大范围内(至少一个排列长度)的变化所引起的时差,长波长静校正在同一共中心点叠加道之间不产生明显的时差,对叠加效果影响不大,但容易把表层异常误认为是地下构造或岩性变化引起的,造成错误的构造解释。在地震资料解释时,长波长静校正会增加低幅构造或岩性微弱变化的识别难度,甚至会把近地表异常变化引起地层反射轴起伏当成低幅构造或储层展布特征的错误解释。
除此之外,在水平井部署过程中,深度域地震资料层位形态是水平井轨迹设计的依据。在准确的时深转换后,目的层的水平井轨迹设计依赖地震层位的形态,而长波长静校正会导致由地表异常引起地震层位的假形态、假起伏。只有消除这些假象,才能保证地震资料构造解释、储层展布特征预测和水平井轨迹设计的精度。
发明内容
本发明的目的是提供一种实钻约束的三维地震资料长波长静校正方法,以解决现有常规静校正无法解决的长波长静校正问题和消除由近地表异常引起地震层位形态的假象。
本发明为解决上述技术问题提供了一种实钻约束的三维地震资料长波长静校正方法,该校正方法包括以下步骤:
1)根据研究区的地质背景和地震数据体确定解释目标层位及其双程旅行时;
2)依据钻井深度资料和解释目标层位,针对各个实钻井点确定解释目标层位对应的实钻深度;
3)根据得到的解释目标层位的实钻深度和双程旅行时计算每个井点位置处的平均速度,
4)对得到平均速度和实钻深度进行插值处理,以得到解释目标层位速度面和实钻深度面,并利用建立的速度面和实钻深度面得到实钻约束的双程旅行时面;
5)对步骤1)中确定的解释目标层位的双程旅行时进行平滑处理,获取新的双程旅行时面,并将新的双程旅行时面与步骤4)中的实钻约束的双程旅行时面进行比较,以得到井控静校正量;
6)将得到的井控静校正量加载到地震数据体,以得到消除长波长静校正量的地震数据体。
所述的井控静校正量为解释目标层位新的双程旅行时面与实钻约束的双程旅行时面相减得到的时差。
所述步骤3)在计算平均速度时是将基准面到解释目标层位简化为纵向速度稳定、横向速度变化的介质层,求出的平均速度即为该层的层速度。
所述的步骤4)和步骤5)中的插值处理均采用克里金算法实现。
本发明的有益效果是:本发明根据研究区的地质背景和地震数据体确定解释目标层位及其双程旅行时;依据钻井深度资料和解释目标层位,针对各个实钻井点确定解释目标层位对应的实钻深度;根据得到的解释目标层位的实钻深度和双程旅行时计算每个井点位置处的平均速度,对得到平均速度和实钻深度进行插值处理,以得到解释目标层位速度面和实钻深度面,并利用建立的速度面和实钻深度面得到实钻约束的双程旅行时面;对解释目标层位的双程旅行时进行插值处理,获取新的双程旅行时面,并将新的双程旅行时面与实钻约束的双程旅行时面进行比较,以得到井控静校正量;将得到的井控静校正量加载到地震数据体,以得到消除长波长静校正量的地震数据体。本发明通过平均速度将深度域的层位实钻深度转变为时间域的层位双程旅行时,并不需要将数据体由时间域转变为深度域,消除了时深转换的人为误差,使研究区的实钻井深度信息得到充分应用。本发明得到的井控静校正量具有实钻井的地质统计意义和层位的实钻深度趋势的特征,经静校正后的地震数据体增加了低幅构造解释和储层展布特征预测的精度,同时水平井轨迹设计的准确性得到极大提高。
附图说明
图1是本发明三维地震资料长波长静校正方法的流程图;
图2是本发明实施例中得到的井控静校正量结果;
图3-a是本发明实施例静校正前的地质构造示意图;
图3-b是本发明实施例静校正后的地质构造示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式做进一步的说明。
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