[发明专利]一种制备FePt赝自旋阀材料的方法

权利要求书

1.一种制备FePt赝自旋阀材料的方法，其特征在于：在经过预拉伸、表面酸化处理、表面抛光处理后的Cu-Zn-Al基片上沉积FePt/Ru/ FePt/Ta多层膜，沉积完毕后，对其进行热处理，诱导FePt原子有序及其硬磁性能；最后，进行光刻处理，以获得纳米柱状阵列结构，引出电极；

该方法的具体过程为：

（1）、对Cu-Zn-Al基片进行预拉伸处理、表面酸化处理以及表面抛光处理，所述的Cu-Zn-Al基片厚度为0.5~0.8毫米，预拉伸量为15%~20%，酸化处理的PH值为6-7，酸化时间为3-5分钟，抛光后的表面粗糙度为0.5~2纳米；

（2）、利用磁控溅射方法，在步骤（1）所述Cu-Zn-Al基片上依次沉积FePt原子、Ru原子、FePt原子以及Ta原子，形成FePt/ Ru/ FePt/Ta多层膜结构的复合体系，沉积过程中溅射室的本底真空度1×10^-5~5×10^-5Pa，溅射时氩气压为0.3～0.8Pa，沉积得到的FePt原子层的厚度为50～100Å，Ru原子层的厚度为10～25Å，Ta原子层的厚度为30～50Å；

（3）、在真空环境下，对步骤（2）中得到的复合体系进行热处理，所述真空环境的真空度为2×10^-5~5×10^-5Pa，热处理的温度为350～400 ℃，保温时间为20～40分钟；最后，冷却到室温；

（4）、对热处理后的复合体系进行光刻处理，形成纳米级别柱状阵列，柱的直径为500～3000Å，柱之间的间距为300～700 Å 。

2.根据权利要求1所述制备FePt赝自旋阀材料的方法，其特征在于，步骤（1）所述的Cu-Zn-Al基片厚度为0.6毫米，预拉伸量为18%，酸化处理的PH值为6.5，酸化时间为4分钟，抛光后的表面粗糙度1纳米。

3.根据权利要求1所述制备FePt赝自旋阀材料的方法，其特征在于，步骤（2）所述的利用磁控溅射方法，是在Cu-Zn-Al基片上依次沉积FePt原子、Ru原子、FePt原子以及Ta原子，形成FePt/Ru/FePt/Ta多层膜结构复合体系，沉积过程中溅射室的本底真空度3×10^-5Pa，溅射时氩气压为0.5Pa，沉积得到的FePt原子层的厚度为70Å，Ru原子层的厚度为18Å，Ta原子层的厚度为40Å 。

4.根据权利要求1所述制备FePt赝自旋阀材料的方法，其特征在于，步骤（3）所述的热处理的真空环境的真空度为3×10^-5Pa，热处理的温度为380 ℃，保温时间为30分钟；最后，冷却到室温后即可。

5.根据权利要求1所述制备FePt赝自旋阀材料的方法，其特征在于，步骤（4）所述的光刻处理，形成纳米级别柱状阵列，柱的直径为1000Å，柱之间的间距为500 Å 。