[发明专利]从氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的方法和系统

说明书

本发明涉及一种从氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的方法和系统，具体涉及从光气化制备异氰酸酯工艺产生的氯化氢液体混合物中分离和处理杂质方法和系统。该方法包括步骤：使氯化氢液体混合物进入一气液分离塔分离，在所述气液分离塔底部得到一含杂质的液相流，杂质包含氯化铵；含杂质的液相流从气液分离塔底部通过一液相流管线流入一中和罐，在中和罐中含杂质的液相流和一碱性液体中和得到一中和溶液，中和溶液从中和罐进入一废液处理装置处理。本发明提供的方法和系统解决了由于因杂质沉积而导致液相流管道、阀门和气液分离塔堵塞的问题，降低了停车检修频率。

技术领域

本发明涉及一种从氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的方法和系统，具体涉及从光气化制备异氰酸酯工艺产生的氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的方法和系统。

背景技术

光气化制备异氰酸酯工艺会产生含氯化氢的气体混合物，这些含氯化氢的气体混合物通常需要再通过部分液化，例如精馏塔部分液化处理得到氯化氢气体和氯化氢液体混合物。氯化氢气体回到光气化反应单元重新利用，氯化氢液体混合物经过处理后送去焚烧。

氯化氢液体混合物处理过程通常包括：使含杂质的氯化氢液体混合物进入气液分离塔，蒸发分离得到含氯化氢气体的气相流和含杂质的液相流，使含杂质的液相流进入焚烧炉焚烧。这种分离和处理杂质的方法经常发生气液分离塔出口、液相流管线和阀门堵塞，造成氯化氢液体混合物分离和处理单元频繁停车检修，进而导致光气化制备异氰酸酯系统的频繁停车。

工业上迫切需要寻找到从氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的过程中造成液相流管线、阀门和气液分离塔堵塞的原因，提供解决办法，以得到一种不需要频繁停车的方法。

发明内容

本发明的目的之一是提供一种从氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的方法。

本发明的又一个目的是提供一种从氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的系统。

本发明的另一个目的是提供一种光气化制备异氰酸酯的方法。

本发明的再一个目的是提供一种光气化制备异氰酸酯的系统。

本发明发现，光气化制备异氰酸酯工艺产生的氯化氢液体混合物中包含氯化铵杂质，氯化铵杂质在气液分离塔出口、液相流管线和阀门处不断沉积，造成堵塞，需要对氯化氢液体混合物分离和处理单元频繁停车检修，进而导致光气化制备异氰酸酯系统的频繁停车。

本发明提供了一种不需要频繁停车检修的从氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的方法和系统，解决了由于杂质沉积而导致液相流管线、阀门和气液分离塔堵塞的问题，降低了氯化氢液体混合物分离和处理单元的停车检修频率。

术语流入一般应当理解为在除重力外无外力施加，且液相流管线不弯曲的情况下，使含杂质的液相流从高处排向低处。液相流管线优选尽可能的垂直以减少含杂质的液相流在液相流管线、阀门和气液分离塔内沉积。

术语下方一般应当理解为正下方或斜下方。

本发明公开了一种从氯化氢液体混合物中分离和处理杂质的方法，包括步骤：

使氯化氢液体混合物进入一气液分离塔分离，在所述气液分离塔底部得到一含杂质的液相流，所述杂质包含氯化铵；

使所述含杂质的液相流从所述气液分离塔底部通过一液相流管线L1流入一中和罐，在所述中和罐中所述含杂质的液相流和一碱性液体中和得到一中和溶液；和

使所述中和溶液从所述中和罐进入一废液处理装置处理。

所述中和罐设置在所述气液分离塔下方，所述中和罐内的压力优选不高于气液分离塔内的压力，更优选低于气液分离塔内的压力。所述中和罐的压力优选为常压。