[发明专利]一种描述同步辐射光源光斑形状的方法及系统

权利要求书

1.一种描述同步辐射光源光斑形状的方法，其特征在于，该方法包括下列步骤：

获取光斑的步骤：确定同步辐射的散射光源，从而得到待描述的同步辐射光源光斑；

描述光斑形状的步骤：利用二维高斯函数来描述同步辐射光源光斑的形状；

修正光斑形状的步骤：调整所述二维高斯函数中的可调参数以改变其所描述的光斑形状，从而描述出所述待描述的同步辐射光源光斑的形状；其中，所述二维高斯函数的形式如式(1)所示：

其中，q₁₂为散射矢量q在子午线方向的分量，q₃为散射矢量q在赤道方向的分量；S_x为q₁₂在子午线方向上的方差，S_y为q₃在赤道方向上的方差，S_x和S_y为可调参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述修正光斑形状的步骤中，通过调整式(1)中的可调参数S_x和S_y，从而描述出所述待描述的同步辐射光源光斑的形状。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法应用于同步辐射光源小角X射线散射技术领域。

4.一种描述同步辐射光源光斑形状的系统，其特征在于，该系统包括如下模块：

获取光斑的模块：确定同步辐射的散射光源，从而得到待描述的同步辐射光源光斑；

描述光斑形状的模块：利用二维高斯函数来描述同步辐射光源光斑的形状；

修正光斑形状的模块：调整所述二维高斯函数中的可调参数以改变其所描述的光斑形状，从而描述出所述待描述的同步辐射光源光斑的形状；其中，所述二维高斯函数的形式如式(1)所示：

其中，q₁₂为散射矢量q在子午线方向的分量，q₃为散射矢量q在赤道方向的分量；S_x为q₁₂在子午线方向上的方差，S_y为q₃在赤道方向上的方差，S_x和S_y为可调参数。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述修正光斑形状的模块通过调整式(1)中的可调参数S_x和S_y，从而描述出所述待描述的同步辐射光源光斑的形状。

6.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，该系统应用于同步辐射光源小角X射线散射技术领域。