[发明专利]一种多个匀胶单元的排废系统有效
申请号: | 201610548002.3 | 申请日: | 2016-07-12 |
公开(公告)号: | CN107608180B | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 高晓旭 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;B05C11/10 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多个匀胶 单元 系统 | ||
本发明属于涂胶与光刻胶工艺的排废领域,具体地说是一种多个匀胶单元的排废系统,匀胶单元为多个、均布于主体安装板上,每个匀胶单元外均设有收集杯,集液盒位于各匀胶单元的一侧,各匀胶单元的背喷排废口、去边排废口以及各收集杯的排废口分别与集液盒密封连接,集液盒的一端通过清洗管路与设备厂务口集中供应的清洗液相连通,并在清洗管路上设有控制清洗管路通断的气动药液阀,集液盒的另一端与排废盒相连通,排废盒上安装有实时监测排废盒内部废液液位的液位传感器,排废盒的出口处连接有气控隔膜泵,排废盒内的废液液位触发液位传感器后通过气控隔膜泵排出。本发明可以防止废液飞溅,及时将废液排出,并能对排废盒中沉积的废液有效清洁。
技术领域
本发明属于涂胶与光刻胶工艺的排废领域,具体地说是一种多个匀胶单元的排废系统。
背景技术
目前,市场上TRACK(涂胶显影机)机台与光刻机联机运行时,存在TRACK产能不足的问题,从而大大降低了光刻工艺的效率。为了满足产能的要求,TRACK单元设计多考虑采用多单元布局在一个设备腔体内,采取集中供液、排废、排风的方式优化机台布局;而一个单元模块无论采用集中排废还是每个spin(匀胶单元)单独排废势必因水平流动距离过长以及排废管道的残胶凝结而出现排废积液不畅的问题,如果单元内化学品废液不能及时排走就会导致挥发,导致整个内环境发生变化影响后续的工艺,出现这种后果对客户是致命的。
发明内容
为了解决因废液的凝结或管路不畅导致的积液和漏液问题,本发明的目的在于提供一种多个匀胶单元的排废系统。该排废系统通过触发液位传感器,及时启动隔膜泵将废液排除,并能对排废盒中沉积的废液有效地清洁,保证管路通畅及单元匀胶工艺的稳定性。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
本发明包括主体安装板及分别安装在主体安装板上的匀胶单元、集液盒、排废盒、气控隔膜泵,其中匀胶单元为多个、均布于所述主体安装板上,每个所述匀胶单元外均设有收集杯,所述集液盒位于各匀胶单元的一侧,各所述匀胶单元的背喷排废口、去边排废口以及各所述收集杯的排废口分别与集液盒密封连接,所述集液盒的一端通过清洗管路与设备厂务口集中供应的清洗液相连通,并在该清洗管路上设有控制清洗管路通断的气动药液阀,所述集液盒的另一端与排废盒相连通,该排废盒上安装有实时监测排废盒内部废液液位的液位传感器,所述排废盒的出口处连接有气控隔膜泵,该排废盒内的废液液位触发液位传感器后通过所述气控隔膜泵排出。
其中:所述集液盒沿主体安装板的长度方向、由连接清洗液的一端向连接排废盒的另一端向下倾斜地安装在主体安装板上;各所述匀胶单元的背喷排废口及去边排废口通过卡套接头与集液盒密封连接,各所述匀胶单元的收集杯的排废口通过密封垫及密封固定块与集液盒密封连接;所述密封固定块安装在集液盒上,该密封固定块与集液盒之间设有所述密封垫,所述收集杯的排废口穿过密封固定块、密封垫,插入所述集液盒中;所述集液盒的另一端通过密封法兰连接到排废盒上,该排废盒的出口处为内腔的最低点;所述匀胶单元、收集杯、集液盒、排废盒及气控隔膜泵组成了防止废液飞溅并及时将废液从匀胶单元内排出的导流内腔。
本发明的优点与积极效果为:
1.本发明通过匀胶单元、收集杯、集液盒、排废盒、气动隔膜泵组成一个导流内腔,可以防止废液飞溅并及时将废液从单元内排出。
2.本发明通过安装在排废盒上的液位传感器实时监测废液液位,当达到设定液位便触发排废盒出口处的气动隔膜泵,将单元内废液及时排出。
3.本发明通过安装在集液盒一端的清洗管路引入一路清洗液,清洗液由设备厂务口集中供液,并通过气控药液阀控制清洗管路的通断,实现定时清洁维护排废管路的目的,保证管路通畅及单元匀胶工艺的稳定性。
4.本发明的集液盒沿主体安装板长度方向倾斜安装,每个匀胶单元的去边排废口、背喷排废口及各收集杯的排废口均集中汇集到集液盒上,有助于废液的流动与集中处理。
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