[发明专利]曝光成型装置及其曝光成型方法

权利要求书

1.一种曝光成型装置，包括：

一曝光槽，具有一第一表面及一第二表面，用以容纳一光敏液；

一工作平台，相对该第一表面设置；以及

一光学系统，相对该第二表面设置，包括：

一发光元件，提供一光线，该光线沿一光路径行进；以及

一光学组件，包括：

一透光元件，设置于该光路径上；

一第一光学元件，于该光路径上设置于该透光元件之后；以及一第一传动机构，沿一第一方向设置，且与该第一光学元件相连接，以带动该第一光学元件沿该第一方向移动；

一第二光学元件，于该光路径上设置于该透光元件与该第一光学元件之间；以及

一第一光学补偿元件及一第二光学补偿元件，该第一光学补偿元件及该第二光学补偿元件于该光路径上设置于该透光元件与该第二光学元件之间，且该第一光学补偿元件与该第一光学元件平行设置，该第二光学补偿元件与该第二光学元件平行设置；

其中，该光线于穿透该透光元件后，受该第一光学元件反射至该曝光槽，以使该光敏液曝光成型于该工作平台。

2.如权利要求1所述的曝光成型装置，其中该光学组件还包括：

一第二传动机构，沿一第二方向设置，且与该第二光学元件相连接，以带动该第二光学元件沿该第二方向移动。

3.如权利要求2所述的曝光成型装置，还包括：

一第三传动机构，与该工作平台相连接，以带动该工作平台沿一第三方向移动；以及

一注料装置，设置于该曝光槽，用以提供该光敏液。

4.如权利要求3所述的曝光成型装置，其中该第一方向、该第二方向及该第三方向相互垂直。

5.如权利要求1所述的曝光成型装置，其中该透光元件为聚焦透镜，该第一光学元件、该第二光学元件、该第一光学补偿元件及该第二光学补偿元件为反射镜。

6.一种曝光成型方法，包括：

(a)提供一曝光槽、一工作平台、一发光元件及一光学组件，其中该曝光槽容纳一光敏液，且该光学组件包括一透光元件、一第一光学元件、一第一传动机构、一第二光学元件、一第一光学补偿元件及一第二光学补偿元件，其中该第一光学补偿元件与该第一光学元件平行设置，该第二光学补偿元件与该第二光学元件平行设置；

(b)该发光元件发射一光线；

(c1)使该光线穿透该透光元件；

(c2)该光线受该第一光学补偿元件及该第二光学补偿元件反射至该第二光学元件，再受该第二光学元件反射至该第一光学元件；

(c3)该光线受该第一光学元件反射至该曝光槽的一欲曝光区域；

(d)经过一曝光时间，使位于该欲曝光区域的该光敏液曝光成型于该工作平台；

(e)判断是否继续进行曝光成型动作；

(f)该第一传动机构沿一第一方向移动该第一光学元件；以及

(g)完成该曝光成型动作；

其中，当该步骤(e)的判断结果为是，执行该步骤(f)，并重新执行该步骤(b)至该步骤(e)，且当该步骤(e)的判断结果为否，执行该步骤(g)。

7.如权利要求6所述的曝光成型方法，其中该光学组件还包括一控制元件及一第二传动机构，且该步骤(f)还包括子步骤：

(f1)该控制元件根据该欲曝光区域计算一移动路径及一移动速度；以及(f2)该控制元件控制该第一传动机构根据该移动路径及该移动速度沿一第一方向移动该第一光学元件，且控制该第二传动机构根据该移动路径及该移动速度沿一第二方向移动该第二光学元件，其中该第一方向与该第二方向相垂直。

8.如权利要求7所述的曝光成型方法，其中该曝光时间与该光线的一光程长度成反比，且该移动速度与该曝光时间成反比。