[发明专利]一种基于离子束技术的复杂曲面去除函数计算方法

权利要求书

1.一种基于离子束技术的复杂曲面去除函数计算方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、选定一组离子源工作参数，测量离子束流在距离离子源L处的离子浓度分布d₀；

步骤二、通过去除函数实验获得所选定的离子源工作参数在距离L处的平面基准去除函数；并对所述离子浓度分布d₀与平面基准去除函数进行标定，获得离子浓度与材料去除率的对应系数矩阵C；

步骤三、根据加工需要设定离子源工作参数，测量离子束流在距离离子源L处离子浓度分布d_a，利用系数矩阵C，计算得到与距离离子源L处离子束流浓度分布所对应的平面去除函数F；

步骤四、选用步骤三中所述的离子源工作参数，测量离子束流浓度空间分布并进行归一化处理，得到离子束流空间分布矩阵I_d；

其中，I_max为距离离子源z处的电流峰值，exp为以e为底的指数函数，η_x、η_y为扫描结果分别在实验室坐标系内x，y方向上的高斯分布系数；

步骤五、计算复杂曲面表面曲率半径变化对去除函数的影响获得矩阵ω；

其中，a为离子能量平均入射深度，σ、μ分别为入射能量在材料内部子午方向和弧矢方向上的分布系数，a_σ＝a/σ，a_μ＝a/μ，h(x,y)为复杂曲面在实验室坐标系内的数学表达式；

步骤六、根据平面去除函数F、离子束流空间分布矩阵I_d和矩阵ω，得到每个驻留点处的曲面去除函数R，完成复杂曲面去除函数的计算。

2.如权利要求1所述的一种基于离子束技术的复杂曲面去除函数计算方法，其特征在于，R＝ωI_dF。