[发明专利]扫描反射镜振幅测量装置及测量方法有效
申请号: | 201610614644.9 | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN107664922B | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 王兴海;袁明波;王海江 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 扫描反射镜 振幅测量装置 测量 光电传感器 反射 采集 传感器单元 光源输出光 设置结构 信号采集 性能好坏 光斑 发射镜 输出光 处理器 安置 光阑 光源 探测 扫描 应用 | ||
本发明揭示了一种扫描反射镜振幅测量装置及测量方法。所述扫描反射镜振幅测量装置包括光源,输出光信号;光阑,调节所述光源输出光信号的光斑的大小以及形状;扫描反射镜设置结构,用于安置待测量的扫描反射镜,所述扫描反射镜安置后周期性反射所述光信号;光电传感器,包括3个以上的传感器单元,探测并采集经所述扫描反射镜反射后的光信号;信号采集及处理器,处理所述光电传感器采集到的信号,获得所述扫描反射镜的振幅。由此,能够在扫描反射镜应用前对扫描反射镜特性进行方便测量,识别扫描发射镜性能好坏。
技术领域
本发明涉及半导体设备技术领域,特别是涉及一种扫描反射镜振幅测量装置及测量方法。
背景技术
投影光刻机是一种把掩模上的图案通过物镜投影到硅片面上的装置。在投影光刻机中,必须有自动调焦控制系统把硅片面精确带入到指定的曝光位置,实现该系统有多种不同的技术方案。在探测光路中,放置有一个扫描反射镜和一个探测狭缝;扫描反射镜以某个频率作高速简谐振动,导致投影光斑在探测狭缝处也产生高速往复扫描运动。由于狭缝的遮光作用,光电探测器最终探测的信号将成为某种动态测量信号,通过对该动态测量信号进行分析处理,可以获取高信噪比的光斑位置,进而获取硅片的高度值,并根据该高度值对硅片的支撑机构进行调整,直到硅片位于最佳焦面。详细原理可参见公开号为CN100535763C的中国专利。
现有基于扫描反射镜的光电垂向测量系统,可以分为投影分支,具有投影狭缝;以及探测分支,具有探测狭缝。投影狭缝和探测狭缝相等尺寸,通过扫描反射镜对信号进行调制,然后提取信号特征,反推被测物的垂向测量高度。
扫描反射镜在光电垂向位置测量系统中起到调制光信号的作用,可以认为是整个光电垂向位置测量系统的关键。扫描反射镜的性能只能同其他系统的性能耦合在一起进行判断,如果扫描反射镜存在问题,有可能到系统测试阶段才能发现,造成人力、物力、时间上的浪费。截止目前,还未有一套独立的、成熟的、精确量化的测量装置,对扫描反射镜的性能进行测试。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种扫描反射镜振幅测量装置及测量方法,可以在扫描反射镜应用前对扫描反射镜特性进行方便的测量,识别扫描发射镜性能好坏。
为解决上述技术问题,本发明提供一种扫描反射镜振幅测量装置,包括:
光源,输出光信号;
光阑,调节所述光源输出光信号的光斑的大小以及形状;
扫描反射镜设置结构,用于安置待测量的扫描反射镜,所述扫描反射镜安置后周期性反射所述光信号;
光电传感器,包括3个以上的传感器单元,设置在第一位置或第二位置上,探测并采集经所述扫描反射镜反射后的光信号;
信号采集及处理器,处理所述光电传感器采集到的信号,获得所述扫描反射镜的振幅。
可选的,对于所述的扫描反射镜振幅测量装置,所述光源输出的光信号为空间高斯分布的光。
可选的,对于所述的扫描反射镜振幅测量装置,所述传感器单元为奇数个。
可选的,对于所述的扫描反射镜振幅测量装置,所述传感器单元紧密排列。
可选的,对于所述的扫描反射镜振幅测量装置,所述光斑呈圆形,其直径等于所述传感器单元的测量尺寸。
可选的,对于所述的扫描反射镜振幅测量装置,还包括一位置调整装置,所述位置调整装置调整所述光电传感器的位置。
可选的,对于所述的扫描反射镜振幅测量装置,所述第一位置、第二位置及所述扫描反射镜共线。
可选的,对于所述的扫描反射镜振幅测量装置,所述第一位置及第二位置的间距为0.2m-1m。
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