[发明专利]像素界定层及其制备方法和应用有效
申请号: | 201610625075.8 | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN107046106B | 公开(公告)日: | 2018-08-10 |
发明(设计)人: | 卢泓 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 李海恬 |
地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 像素 界定 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种像素界定层,其特征在于,包括层叠的底层和顶层,所述底层主要由第一材料制备得到,所述顶层主要由第二材料制备得到,所述顶层对墨水的排斥性大小根据温度的改变而变化;
所述第一材料选自:丙烯酸树脂,环化橡胶,酚醛树脂,聚对羟基苯乙烯及其衍生物,聚脂环族丙烯酸酯及其共聚物,双叠氮化合物,重氮萘醌化合物,和光致产酸剂中的至少一种;
所述第二材料选自:聚N-异丙基丙烯酰胺,和聚甲基乙烯基醚中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,所述第二材料为低临界溶解温度为10℃-60℃的温敏材料,所述温敏材料在低临界溶解温度进行相转变的温度范围不大于10℃。
3.根据权利要求1所述的像素界定层,其特征在于,所述底层的厚度为0.8μm-1.6μm,所述顶层的厚度为0.01μm-0.3μm;所述像素界定层具有容纳墨水的像素坑,所述像素坑的内壁为角度为10-70的斜坡。
4.权利要求1-3任一项所述的像素界定层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
配制混合液:将所述第一材料、所述第二材料、第一溶剂和第二溶剂混合,制得均一的混合液;所述第一溶剂用于溶解所述第一材料,所述第二溶剂用于溶解所述第二材料,所述第一溶剂和所述第二溶剂能够部分互溶,且所述第一溶剂的沸点高于所述第二溶剂的沸点;
形成薄膜:将上述混合液在基底上形成液态薄膜;
热处理:对上述液态薄膜进行热处理,首先在第一温度加热,使所述第二溶剂挥发,使所述第二材料随所述第二溶剂迁移至薄膜表面并析出;然后在第二温度加热,使第二溶剂挥发,得到主要由第一材料制备而成的底层和主要由第二材料制备而成的顶层,即为干膜;
图案化:通过构图工艺对上述干膜进行图案化处理,即得。
5.根据权利要求4所述的像素界定层的制备方法,其特征在于,所述混合液中还包括用于提高混合液稳定性的表面活性剂。
6.根据权利要求4所述的像素界定层的制备方法,其特征在于,所述第一溶剂选自:丙二醇单甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、环己酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺和二甲基亚砜中的至少一种;
所述第二溶剂选自:水、四氢呋喃、二氯甲烷、三氯甲烷、丙酮和甲基异丁基甲酮中的至少一种。
7.根据权利要求4所述的像素界定层的制备方法,其特征在于,所述第一温度高于所述第二溶剂的沸点且低于所述第一溶剂的沸点,所述第二温度高于所述第二溶剂的沸点。
8.根据权利要求4所述的像素界定层的制备方法,其特征在于,所述图案化步骤中,采用曝光、显影的方式对像素界定材料层进行图案化处理。
9.权利要求1-3任一项所述的像素界定层在制备OLED或QLED的基板、面板和/或显示装置中的应用。
10.一种OLED或QLED的基板、面板或显示装置,其特征在于,具有权利要求1-3任一项所述的像素界定层。
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