[发明专利]一种包含反向凹槽的穿刺器密封膜

权利要求书

1.一种用于微创手术的穿刺器的密封膜，所述密封膜具有近端开口和远端孔以及从远端孔延伸至近端开口的密封壁,所述密封壁具有近端面和远端面；所述远端孔由密封唇形成，用于容纳插入的器械并形成密封，所述密封唇包含中心轴线和大致与所述轴线垂直的横平面；其特征在于：

a)所述密封壁包含主体回转壁和多个反向凹槽，所述反向凹槽从所述主体回转壁的远端面向近端面凹陷且所述反向凹槽的开口朝向远端面，而从近端面的视角所述反向凹槽的外形表现为从近端面上隆起的筋；

b)在密封唇临近区域内，每一个所述反向凹槽包含两个侧壁，且所述侧壁是两边限定的从密封唇开始横向向外延伸的且宽度逐渐增大的面域；在密封唇临近区域内，所述多个反向凹槽将所述主体回转壁基本均分成多个部分；

c)所述主体回转壁在所述横平面上的投影面积为A1，所述反向凹槽在所述横平面上的投影面积为A2，且A2＜A1；

d)所述反向凹槽具有增加环向周长，减小包裹区域，减小与插入器械之间的真实接触面积和增加轴向抗拉刚度的功能。

2.如权利要求1所述的密封膜，其特征在于，所述主体回转壁为截圆锥形。

3.如权利要求1所述的密封膜，其特征在于，所述反向凹槽的截面形状是U型或者V型或者其中一部分是U型而另一部分是V型。

4.如权利要求1所述的密封膜，其特征在于，所述侧壁的两边之间夹角的几何关系符合下述公式：

θ≥arctan9πR(Ri-R)cosαP(Ri+9R)(R-R0)]]>

且α+θ≤90°；

其中：

θ＝在密封唇临近区域的反向凹槽的侧壁的两条边之间的夹角

α＝密封唇临近区域的截圆锥形主体回转壁的母线与横平面的夹角(导向角)

arctan＝反正切函数

cos＝余弦函数

π＝圆周率

R＝半径

R_i＝设计通过密封膜的手术器械的最大半径

R₀＝密封唇的半径

P＝反向凹槽的数目。

5.如权利要求3所述的密封膜，其特征在于，所述反向凹槽的壁厚小于所述主体回转壁的壁厚。

6.如权利要求1所述的密封膜，其特征在于，还包括与所述主体回转壁延伸相交或同时与主体回转壁和所述反向凹槽延伸相交的凸缘，以及从凸缘延伸至近端开口的具有至少一个横向褶皱的外部浮动部分。

7.一种穿刺器密封组件，其特征在于包括如权利要求1-5中任一项所述的密封膜，所述密封组件还包含下固定环，上固定环，四个相互搭接的保护片，上壳体和上盖；所述密封膜还包括与所述主体回转壁延伸相交的或同时与所述主体回转壁和所述反向凹槽延伸相交的凸缘，以及从凸缘延伸至近端开口的具有多个横向褶皱的外部浮动部分；所述密封膜和保护片被夹在上固定环和下固定环之间，所述密封膜的近端开口被夹在上壳体和上盖之间。