[发明专利]一种可实现单晶锅底料有效清洗的工艺有效
| 申请号： | 201610627039.5 | 申请日： | 2016-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN106276916B | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 李鹏廷;王峰;张建帅;姚玉杰 | 申请（专利权）人： | 大工（青岛）新能源材料技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人： | 巩同海 |
| 地址： | 266000 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 硅料 锅底料 单晶 滚动 滚筒 放入 分选 超声波清洗 装料 硅料清洗 回收处理 块状单晶 块状杂质 清水冲洗 烧碱溶液 重复利用 粘附的 烘干 非硅 碱洗 难熔 酸碱 酸洗 酸液 坩埚 清水 取出 | ||
【权利要求书】：
1.一种可实现单晶锅底料有效清洗的工艺，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将块状单晶锅底料倒入滚筒中；
(2)将装料的滚筒放入烧碱溶液中进行滚动清洗；
(3)将碱洗完的硅料用清水冲洗后放入酸液中滚动清洗；
(4)将酸洗后的硅料用清水多次滚动清洗后取出；
(5)进行硅料分选，捡出块状杂质即可；
(6)将分选后的硅料用纯水进行超声波清洗后烘干、包装。
2.根据权利要求1所述的一种可实现单晶锅底料有效清洗的工艺，其特征在于，所述步骤(1)中块状单晶锅底料占滚筒容积的1/4-1/3。
3.根据权利要求1所述的一种可实现单晶锅底料有效清洗的工艺，其特征在于，所述步骤(2)中烧碱溶液的质量分数为15％-20％，温度为35-40℃，进行滚动清洗40-50min后停止。
4.根据权利要求1所述的一种可实现单晶锅底料有效清洗的工艺，其特征在于，所述步骤(3)中酸液为盐酸与氢氟酸的混合酸。
5.根据权利要求4所述的一种可实现单晶锅底料有效清洗的工艺，其特征在于，所述步骤(3)中酸液体积比为HF：HCl：水＝1:1:1～4，滚动清洗10min-20min。
6.根据权利要求1所述的一种可实现单晶锅底料有效清洗的工艺，其特征在于，所述步骤(4)中将酸洗后的硅料用三道清水各滚动清洗3-5min后取出。
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