[发明专利]离子注入装置及使用该装置的多片晶片的处理方法有效
| 申请号： | 201610630017.4 | 申请日： | 2016-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN106449339B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 工藤哲也;戎真志;藤井嘉人 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/317;H01L21/265;H01L21/677 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 夏斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 使用 晶片 处理 方法 | ||
【说明书】：
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