[发明专利]聚合物、补偿膜、光学膜和显示装置

权利要求书

1.聚合物，其包括由化学式1表示的第一结构单元：

化学式1

其中，在化学式1中，

L¹为单键、O、C(＝O)、C(＝O)O、或C(＝O)NR^a，

R¹-R⁵和R^a独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1为1-5。

2.如权利要求1所述的聚合物，其中所述第一结构单元由化学式1-1表示：

化学式1-1

其中，在化学式1-1中，

R¹-R⁵独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

n1为1-5。

3.如权利要求1所述的聚合物，其中所述聚合物进一步包括由化学式2表示的第二结构单元：

化学式2

其中，在化学式2中，

L²为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、由化学式A表示的基团、或其组合，

化学式A

其中，在化学式A中，

L³为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、O、C(＝O)、C(＝O)O、SiR^bR^c、S、SO₂、或其组合，和

R⁶、R⁷、R^b、和R^c独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。

4.如权利要求3所述的聚合物，其中所述第二结构单元由化学式2-1到2-10之一表示：

其中，在化学式2-1到2-10中，

R⁶-R¹²和R¹⁴-R¹⁹独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，和

R¹³为取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团或其组合。

5.如权利要求3所述的聚合物，其中所述第一结构单元和所述第二结构单元的摩尔比为1:99-99:1。

6.如权利要求3所述的聚合物，其中所述第一结构单元和所述第二结构单元的摩尔比为1:99-50:50。

7.补偿膜，其包括如权利要求1或2所述的聚合物作为第一聚合物。

8.如权利要求7所述的补偿膜，其中所述补偿膜进一步包括不同于所述第一聚合物的第二聚合物。

9.如权利要求7所述的补偿膜，其中所述补偿膜为单轴或双轴伸长的。