[发明专利]嵌段共聚物和相关光致抗蚀剂组合物以及形成电子装置的方法

权利要求书

1.一种嵌段共聚物，其包含：

第一嵌段，其包含来源于以下各者的重复单元

频带外吸收型单体，其包含未经取代或经取代的不含氟的C₆-C₁₈芳基、未经取代或经取代的C₂-C₁₇杂芳基、C₅-C₁₂二烯酮基团，或其组合，和来源于以下的重复单元

碱溶解度增强型单体，所述碱溶解度增强型单体选自由以下组成的群组：酸不稳定(甲基)丙烯酸酯、碱不稳定(甲基)丙烯酸酯、经pK_a是2到12的基团取代的(甲基)丙烯酸酯和其组合；和

第二嵌段，其具有15到34毫焦耳/米²的表面能，使用欧文斯-万特方法由18欧姆去离子水、亚甲基碘和二乙二醇的接触角测定，所述接触角是通过固着液滴法在接触角测角计上测量；

其中由所述嵌段共聚物铸成的薄膜在150到400纳米范围内的波长下的消光系数k是0.1到0.5。

2.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其具有1.05到1.2的分散度(M_w/Mn)。

3.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中所述频带外吸收型单体具有以下结构

其中

R¹是氢或甲基，

n是0、1、2、3或4，和

Ar¹是不含氟的未经取代或经取代的C₆-C₁₈芳基。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的嵌段共聚物，其中所述碱溶解度增强型单体包含(甲基)丙烯酸的叔酯。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的嵌段共聚物，其中所述第二嵌段是使包含以下各者的单体聚合的产物

选自由以下组成的群组的可聚合部分：乙烯基、烯丙基、降冰片烯基、(甲基)丙烯酰基、二醇、二羧酸、二酯、二异氰酸酯、异氰酸酯与醇的组合、(二氯)(烃基)硅烷基、联乙炔、缩水甘油基和羟苯基；和

选自由以下组成的群组的低表面能部分：C₁₀-C₃₆烷基、C₂-C₁₂二烷基硅氧烷和C₁-C₁₂氟化烷基。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的嵌段共聚物，其中所述第二嵌段包含来源于包含至少一个氟原子的(甲基)丙烯酸酯的重复单元，并且其中所述包含至少一个氟原子的(甲基)丙烯酸酯具有以下结构

其中

p是0、1、2、3或4，

R¹是氢或甲基，

R²是未经取代或经取代的C₁-C₁₈亚烃基，和

R^f是经至少一个氟原子取代并且任选地进一步经除氟以外的取代基取代的C₁-C₁₈烃基。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的嵌段共聚物，其中所述第一嵌段更包含来源于光酸产生型单体的重复单元。

8.一种光致抗蚀剂组合物，其包含根据权利要求1至3中任一项所述的嵌段共聚物。

9.根据权利要求8所述的光致抗蚀剂组合物，其更包含光酸产生剂。

10.根据权利要求8所述的光致抗蚀剂组合物，其更包含选自由以下组成的群组的抑止剂：C_1-30胺、C_1-30酰胺和其组合。