[发明专利]探头系统和检测方法有效
申请号: | 201610666159.6 | 申请日: | 2016-08-12 |
公开(公告)号: | CN107726053B | 公开(公告)日: | 2020-10-13 |
发明(设计)人: | 翟梓融;凯文·乔治·哈丁;韩杰;杨东民;克拉克·亚历山大·本多尔;顾嘉俊 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | F17D5/02 | 分类号: | F17D5/02;G01B11/25 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 侯颖媖 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 探头 系统 检测 方法 | ||
1.一种探头系统,其特征在于,其包括:
发光单元,用来发射光;
图案生成单元,所述图案生成单元包括振镜扫描单元,用来将所述发光单元发射的光反射至多个方向,以便将至少一个参照结构光图案投射至物体表面以获得至少一个参照投影图案;
成像单元,用于从所述至少一个参照投影图案获得一个或多个图像数据;
微控制器,用于接收来自所述成像单元的所述一个或多个图像数据,确定所述一个或多个图像数据的灰度是否大于阈值上限或者是否小于阈值下限,并且基于确定所述一个或多个图像数据的灰度大于所述阈值上限或者小于所述阈值下限,输出一个或多个命令;及
光强调制器,用来响应于来自所述微控制器的所述一个或多个命令,调制所述发光单元发射的光,以致于所述一个或多个图像数据的灰度位于所述阈值上限和所述阈值下限之间。
2.如权利要求1所述的探头系统,其特征在于:所述图案生成单元包括光栅,用来遮挡所述振镜扫描单元反射的光。
3.如权利要求1所述的探头系统,其特征在于:所述发光单元包括用来发射光点的一个或多个点光源。
4.如权利要求1所述的探头系统,其特征在于:所述发光单元包括用来发射线形光的线光源。
5.如权利要求1所述的探头系统,其特征在于:所述发光单元包括光源和一排光纤,用来发出线形光。
6.如权利要求1所述的探头系统,其特征在于:所述振镜扫描单元包括一个或多个可控镜,可被控制在二维方向上偏斜。
7.如权利要求1所述的探头系统,其特征在于:所述振镜扫描单元包括一个或多个可控镜,可被控制在一维方向上偏斜。
8.如权利要求1所述的探头系统,其特征在于:所述振镜扫描单元包括一个或多个微机电系统振镜扫描仪。
9.一种检测方法,其包括:
发射光;
将光反射到多个方向,以便将至少一个参照结构光图案投射至物体表面,以获得至少一个参照投影图案;
从所述至少一个参照投影图案获得一个或多个图像数据;
确定所述一个或多个图像数据的灰度是否大于阈值上限或者是否小于阈值下限;
基于确定所述一个或多个图像数据的灰度大于所述阈值上限或者小于所述阈值下限,调制发射出的光的强度,以致于所述一个或多个图像数据的灰度位于所述阈值上限和所述阈值下限之间;及
将调制光反射到多个方向,来投射至少一个调制结构光图案至物体表面,以获得至少一个调制投影图案。
10.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于:所述检测方法包括通过光栅遮挡反射出的光来投射所述参照结构光图案,及通过光栅遮挡反射出的调制光来投射所述调制结构光图案。
11.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于:所述发射光的步骤包括发射一个或多个光点。
12.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于:所述发射光的步骤包括发射线形光。
13.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于:所述投射至少一个参照结构光图案的步骤包括控制一个或多个可控镜在一维方向上偏斜。
14.如权利要求9所述的检测方法,其特征在于:所述投射至少一个参照结构光图案的步骤包括控制一个或多个可控镜在二维方向上偏斜。
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