[发明专利]一种近红外单光子雪崩光电二级管的参数优化方法及平台有效
申请号: | 201610670222.3 | 申请日: | 2016-08-15 |
公开(公告)号: | CN106299014B | 公开(公告)日: | 2018-04-10 |
发明(设计)人: | 张军;马健;白冰;李力;刘乃乐;潘建伟 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;G06F17/50 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司11260 | 代理人: | 郑立明,郑哲 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 红外 光子 雪崩 光电 二级 参数 优化 方法 平台 | ||
1.一种近红外单光子雪崩光电二级管的参数优化方法,其特征在于,包括:
获取输入的近红外单光子雪崩光电二级管的在预定工作温度下的结构参数;
根据结构参数并结合高斯方程计算近红外单光子雪崩光电二级管的电场分布,进而得到近红外单光子雪崩光电二级管倍增层各位置的雪崩概率;
根据得到的雪崩概率与电场分布计算近红外单光子雪崩光电二级管的本征参数;
其中,计算近红外单光子雪崩光电二级管倍增层各位置的雪崩概率的公式包括:
上式中,Pe与Ph分别为电子与空穴在近红外单光子雪崩光电二级管倍增层内x'位置触发雪崩的概率,αe与αh分别为电子与空穴在近红外单光子雪崩光电二级管倍增层内x'位置处的电离系数;
则电子与空穴对在近红外单光子雪崩光电二级管倍增层内x位置触发雪崩的概率Pb(x')为:
Pb(x')=1-(1-pe(x'))(1-ph(x'))。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的