[发明专利]一种投影设备及投影系统

权利要求书

1.一种投影设备，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体包括围成内部空间的连接基板、第一基板和第二基板，所述连接基板与所述第一基板和所述第二基板相交，所述连接基板的第一朝向区域形成有进风通孔，所述连接基板的第二朝向区域形成有出风通孔；

其中，所述壳体的第一基板和/或第二基板的内壁上形成有组成散热空间的凹槽，进入所述进风通孔的部分气流通过所述凹槽从所述出风通孔排出，所述凹槽与固定在所述壳体中的发热部件相对设置。

2.根据权利要求1所述的投影设备，其特征在于，所述连接基板包括多个子基板，所述子基板为弧形板或者平板。

3.根据权利要求1所述的投影设备，其特征在于，所述投影设备还包括：设置于所述壳体内部空间的至少一个风扇；

其中，进入所述进风通孔的气流在所述风扇的作用下通过所述凹槽从所述出风通孔排出。

4.据权利要求3所述的投影设备，其特征在于，所述凹槽距离所述发热部件的距离大于0.6mm。

5.据权利要求4所述的投影设备，其特征在于，所述凹槽距离所述发热部件的距离大于1mm小于2.2mm。

6.根据权利要求1所述的投影设备，其特征在于，所述投影设备还包括：设置于所述壳体内部空间的散热器，所述散热器设置于所述出风通孔一侧，进入所述进风通孔的气流经所述散热器从所述出风通道排出。

7.根据权利要求1所述的投影设备，其特征在于，所述凹槽延伸至所述进风通孔。

8.根据权利要求3所述的投影设备，其特征在于，所述凹槽延伸至所述风扇所在的壳体区域。

9.根据权利要求8所述的投影设备，其特征在于，延伸至所述风扇所在壳体区域的凹槽深度不同于凹槽的其他部分的深度。

10.根据权利要求1～9任一项所述的投影设备，其特征在于，所述凹槽深度不大于1.2mm。

11.一种投影系统，其特征在于，所述投影系统包括权利要求1～10任意一项所述的投影设备。