[发明专利]FinFET隔离结构及其制造方法有效
| 申请号： | 201610680208.1 | 申请日： | 2016-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN106684116B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 张哲诚;林志翰;曾鸿辉 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | finfet 隔离 结构 及其 制造 方法 | ||
【说明书】：
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