[发明专利]用于测量高度图并将高度图合并为合成高度图的方法

权利要求书

1.一种用于利用光学轮廓仪来测量基板的表面上的多个视场的高度图并将所测量到的高度图合并为合成高度图的方法，所述方法包括：

使所述光学轮廓仪相对于所述表面沿着路线在视场之间移动；

利用所述光学轮廓仪沿着所述路线测量所述表面上的视场的高度图；以及

合并所测量的视场的多个高度图以产生所述表面的合成高度图，

其中，所述路线包括具有第一方向的分量和第二方向的分量的方向，所述第二方向的分量与所述第一方向的分量大致垂直，

其中，使所述光学轮廓仪相对于所述表面沿着路线在视场之间移动包括：在测量视场的高度图期间，在所述第一方向的分量和所述第二方向的分量这两者上前后移动至少两次，其中，所述路线被配置为在合并多个高度图期间使得针对所述光学轮廓仪的高度漂移所引起的效应的灵敏度最小化。

2.一种用于利用光学轮廓仪来测量基板的表面上的多个视场的高度图并将所测量到的高度图合并为合成高度图的方法，所述方法包括：

使所述光学轮廓仪相对于所述表面沿着路线在视场之间移动；

利用所述光学轮廓仪沿着所述路线测量所述表面上的视场的高度图；以及

合并所测量的视场的多个高度图以产生所述表面的合成高度图，

其中，所述路线包括具有第一方向的分量和第二方向的分量的方向，所述第二方向的分量与所述第一方向的分量大致垂直，

其中，使所述光学轮廓仪相对于所述表面沿着路线在视场之间移动包括：在测量视场的高度图期间，在所述第一方向的分量上前后移动至少两个视场，以及在所述第二方向的分量上前后移动至少两个视场，其中，所述路线被配置为在合并多个高度图期间使得针对所述光学轮廓仪的高度漂移所引起的效应的灵敏度最小化。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述路线被配置为大致以随机次序来测量视场。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述路线具有螺旋形状或近似螺旋的形状。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述方法包括：

顺次测量和/或再测量位于大致靠近所述表面的边缘的多个视场的高度图，

其中，合并多个高度图包括：之后针对整体定向和倾斜，使用再测量的视场来校正所述合成高度图。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述路线包括多次穿过所述表面上的多个视场的中心。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述方法包括：在所测量的视场和要测量的下一个视场之间留出一个、两个、三个或甚至更多个视场的状态下，从该所测量的视场向该要测量的下一个视场移动。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述方法包括：使用算法来确定所述路线。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在利用所述光学轮廓仪测量所述表面上的视场的高度图期间，能够维持邻接的视场之间的重叠或连接的区域，以及

合并多个高度图包括：使用重叠的区域或个体视场高度信息来确定并校正高度差以产生所述表面的所述合成高度图。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述光学轮廓仪是白光干涉仪即WLI、移相干涉仪即PSI、色点传感器即CPS、聚焦点恢复/聚焦形状恢复传感器即PFF/SFF、共焦显微镜、结构化照明显微镜即SIM或激光干涉仪显微镜。