[发明专利]一种同时处理氯硅烷残液和废气的方法有效
| 申请号： | 201610694205.3 | 申请日： | 2016-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN106276924B | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 陈樑;赵义;李银光;黄兵;董森林;章江洪 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C01B33/12 | 分类号： | C01B33/12;C01B7/03 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 残液 氯硅烷 废气 二氧化硅 吸收剂 吸收塔 喉管 文丘里雾化器 多晶硅生产 废气处理 分开处理 混合雾化 建设成本 水解产物 文丘里管 运行成本 胶凝 水解 压入 渣水 盐酸 保证 调控 吸收 | ||
1.一种同时处理氯硅烷残液和废气的方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）将氯硅烷残液通入到残液储罐（1）中，并用氮气作为保护气充满残液储罐剩余空间，使残液罐保持正压，氯硅烷废气通入到废气缓冲罐（3）中；
（2）用残液输送泵（2）将氯硅烷残液抽至文丘里雾化器（5）的进液管中，用风机（4）将氯硅烷废气送入文丘里雾化器（5）中，经收缩段加速，氯硅烷残液和氯硅烷废气在文丘里雾化器喉管处混合雾化；
（3）混合雾化后的气体在水解吸收塔（8）中被吸收剂水解并吸收，落入塔底液封槽（6）发生反应产生挥发气体，挥发气体通过气相回流管（9）回流入水解吸收塔中部；
（4）反应吸收后混合液经固液分离，液相的一部分作为稀盐酸回收利用，另一部分用循环泵（7）泵入水解吸收塔（8）作为水解吸收剂。
2.根据权利要求1所述的同时处理氯硅烷残液和废气的方法，其特征在于：氯硅烷残液和氯硅烷废气的液气比为0.5~1L/m3。
3.根据权利要求1所述的同时处理氯硅烷残液和废气的方法，其特征在于：所述吸收剂为水或盐酸，控制吸收剂的流量使生成二氧化硅浓度占比≤y；
吸收剂流量计算公式：
x-吸收剂初始酸浓度%；M-氯硅烷残液硅含量%；N-氯硅废气硅含量%；-氯硅烷残液密度kg/L；-氯硅烷废气密度kg/m3；-吸收剂密度kg/m3；-氯硅烷残液流量L/h；-氯硅烷废气流量m3/h；-吸收剂流量m3/h。
4.权利要求1所述的同时处理氯硅烷残液和废气的方法，其特征在于：吸收剂温度控制在18~50℃，水解吸收塔气相温度控制在50℃以内。
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