[发明专利]一种P型埋层AlGaN-GaN高电子迁移率晶体管有效
申请号: | 201610704134.0 | 申请日: | 2016-08-22 |
公开(公告)号: | CN106206711B | 公开(公告)日: | 2019-04-30 |
发明(设计)人: | 孙伟锋;陈欣;魏家行;杨翰琪;任晓飞;刘斯扬;陆生礼;时龙兴 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L29/06 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 214135 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 型埋层 algan gan 电子 迁移率 晶体管 | ||
【说明书】:
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