[发明专利]匹配器在审

专利信息
申请号: 201610708936.9 申请日: 2016-08-23
公开(公告)号: CN107761159A 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 叶树成;张磊磊 申请(专利权)人: 天津市成吉斯宾科技发展有限公司
主分类号: C25D21/10 分类号: C25D21/10;C25D5/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市武清区京滨*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 配器
【说明书】:

技术领域

发明属于电镀设备领域,尤其涉及一种匹配器。

背景技术

流镀是一种新型的电镀工艺,与普通的电镀工艺相比,具有镀层形成速度块的优点。流镀过程中,为了提高电镀速度,有时候需要向电解液中通入空气,用以对电镀液进行搅拌。然而,单纯的通过普通的管路将空气通入电镀液中,搅拌效果并不理想,因此,需要设计一种可将空气与电解液进行良好匹配的,可提供较好的搅拌效果的配气装置。

发明内容

本发明提供一种匹配器,以解决上述背景技术中提出的问题。

本发明所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:本发明提供一种匹配器,包括圆锥部、圆盘部和出气部,三者由上至下依次固定连接,所述的圆锥部的圆锥面上设置有三角形的过液孔,圆锥部的顶部设置有用于扶持导电铜棒的扶正器,所述的圆盘部为圆盘状结构,圆盘的直径大于圆锥部的最大直径和出气部的最大直径,所述的出气部的上段沿周向均匀设置有出气孔,出气部的下段设置有锥形的插接段,插接段的锥度为莫氏锥度。

所述的扶正器由塑料网格板制成,塑料网格板的中心镶嵌有耐磨扶正套,耐磨扶正套的中央设置有用于容纳导电铜棒的圆孔。

所述的出气部的中部设置有圆台,圆台的下侧设置有密封圈。

所述的插接段的边缘设置有豁口,豁口的长度为插接段的宽度的三分之二。

本发明的有益效果为:

1、使用时,将本发明插接在进气管上,进入流镀设备的空气经过出气孔流出,从而被分散成多股气流,与单股气流相比,搅拌效果得到显著提升。

2、扶正器的设置,可用来扶持悬垂状态的导电铜棒,避免其在气流和液流的作用下摆动。

3、三角形的过液孔,可保证导电铜棒端部的液体顺畅的流动,防止圆锥部内部电镀液浓度过低而影响电镀速率。

4、圆盘的设置,可将出气孔流出的气体进一步分散,进而实现更大范围的搅动,改啥搅动效果。

5、出气孔沿圆周分布,使得气体得以均匀分散,进而使得气体的搅拌更均匀,搅拌效果更好。

6、插接段采用圆锥面结构实现插接,保证了安装的便捷性,圆锥面采用莫氏锥度,可最大程度的保证圆锥插接配合的牢固性。

7、圆台起限位作用,使得插接配合位置更准确,密封圈起密封作用,可有效保证气密性,防止气体不规则泄露而影响搅拌的效果。

8、考虑到了插接配合面的加工误差,在插接段设置了豁口,如此一来,在配合京都较差的情况下也可保证足够的插接深度,从而保证插接的牢固性;如果豁口过长,会造成插接配合不紧密,如果豁口过短,则起不到豁口应有的作用,因此将豁口的长度为插接段的宽度的三分之二。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

图中:1-插接段,2-出气部,3-出气孔,4-圆盘部,5-过液孔,6-圆锥部,7-扶正器,8-耐磨扶正套,9-圆孔,10-圆台,11-密封圈,12-豁口。

具体实施方式

以下结合附图对本发明做进一步描述:

实施例:

本实施例包括圆锥部6、圆盘部4和出气部2,三者由上至下依次固定连接,所述的圆锥部6的圆锥面上设置有三角形的过液孔5,圆锥部6的顶部设置有用于扶持导电铜棒的扶正器7,所述的圆盘部4为圆盘状结构,圆盘的直径大于圆锥部6的最大直径和出气部2的最大直径,所述的出气部2的上段沿周向均匀设置有出气孔3,出气部2的下段设置有锥形的插接段1,插接段1的锥度为莫氏锥度。

所述的扶正器7由塑料网格板制成,塑料网格板的中心镶嵌有耐磨扶正套8,耐磨扶正套8的中央设置有用于容纳导电铜棒的圆孔9。

所述的出气部2的中部设置有圆台10,圆台10的下侧设置有密封圈11。

所述的插接段1的边缘设置有豁口12,豁口12的长度为插接段1的宽度的三分之二。

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