[发明专利]矩阵分布式的底注浇注系统

权利要求书

1.一种矩阵分布式的底注浇注系统，其特征在于：包括与直浇道(4)连接的横浇道(5)，所述横浇道(5)位于铸件(1)薄壁(3)的下方，所述横浇道(5)与铸件(1)相对的一侧上设有L形台阶面，所述L形台阶面的一个面上集成有一列第一入流口(9)，另一面上集成有一列第二入流口(10)，所述第一入流口(9)和第二入流口(10)呈矩阵分布且第一入流口(9)和第二入流口(10)的数量与铸件(1)上薄壁(3)数量相同且一一对应，所述第一入流口(9)的钢液流向矢量与所述第二入流口(10)的钢液流向矢量相交。

2.如权利要求1所述的矩阵分布式的底注浇注系统，其特征在于：所述第一入流口(9)的钢液流向矢量与所述第二入流口(10)的钢液流向矢量正交。

3.如权利要求2所述的矩阵分布式的底注浇注系统，其特征在于：对应同一薄壁(3)的第一入流口(9)和第二入流口(10)连通形成L形凹槽，所述凹槽的形状与所述薄壁(3)形状匹配，且所述薄壁(3)置于所述凹槽内。

4.如权利要求1所述的矩阵分布式的底注浇注系统，其特征在于：通过调整所述第一入流口(9)和第二入流口(10)的分布比例实现钢液流量和钢液流向矢量的调整。

5.如权利要求1所述的矩阵分布式的底注浇注系统，其特征在于：还包括两个第三入流口(11)，所述第三入流口(11)对称设置在所述铸件(1)两侧。

6.如权利要求5所述的矩阵分布式的底注浇注系统，其特征在于：所述第三入流口(11)的位置高于所述第一入流口(9)和第二入流口(10)的位置。