[发明专利]光伏电池光电转换复合层结构制作方法

权利要求书

1.一种光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，该方法包括：

a)、备有一透明基板；

b)、于该透明基板一侧面进行硬化处理形成有一光学硬化层；

c)、将导体涂层经干式或湿式蚀刻形成具有多个下电极及多条引线的下导电层，该下导电层在该光学硬化层的一侧面上；

d)、于该透明基板的光学硬化层及下导电层需蚀刻区域制作一牺牲层；

e)、依序涂覆电子传递层、主动层、电洞传递层组成的光电反应层于该下导电层及该牺牲层的一侧面上；

f)、直接于该牺牲层的一侧面上黏贴有一黏着层，将该牺牲层移除，在该牺牲层被移除后以构成特定的蚀刻区域；

g)、将金属材料涂覆于光电反应层上形成多个上电极及多条引线的上导电层，使该光电反应层与下导电层的该下电极电性连结，以完成光伏电池光电转换复合层结构。

2.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤a的该透明基板为透光塑料或透光玻璃基板。

3.根据权利要求2所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，该透光塑料为聚乙烯对苯二甲酸酯、聚乙烯、聚酰亚胺、尼龙、聚氨酯或压克力塑料。

4.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤a的该透明基板的厚度为10μm-500μm。

5.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤b的该光学硬化层为压克力、环氧树脂、二氧化硅或前述两种以上材料的组合。

6.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤b的该光学硬化层的厚度为1μm-5μm。

7.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤c的该下导电层的导电涂层为有机导体涂层、无机导体涂层或以前述两种以上组合。

8.根据权利要求7所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，该无机导体涂层为金属或金属氧化物。

9.根据权利要求7所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，该有机导体涂层为纳米碳管、聚3,4-乙撑二氧噻吩或以前述两种以上组合。

10.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤c的该下导电层厚度为50nm-10μm。

11.根据权利要求10所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，该下导电层厚度小于100nm。

12.根据权利要求11所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤d的该牺牲层为可剥胶。

13.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤d的该牺牲层为以加热固化或UV固化方式硬化形成的树脂胶。

14.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤d的该牺牲层的厚度大于该光电反应层的厚度20μm。

15.根据权利要求14所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤d的该牺牲层厚度为30μm-2mm。

16.根据权利要求1所述的光伏电池光电转换复合层结构制作方法，其特征在于，步骤d的该牺牲层覆盖于该下导电层的每一个该下电极的面积区域小于该牺牲层面积的1/3。