[发明专利]有机电致发光器件

说明书

本发明公开了一种有机电致发光器件，包括：阳极；第一有机功能层，形成于阳极上；发光层，形成于第一有机功能层上；第二有机功能层，形成于发光层上；阴极，形成于第二有机功能层上；其中，发光层包括红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层；红光发光层的厚度大于绿光发光层的厚度，且红光发光层的厚度大于蓝光发光层的厚度。其通过设置红光发光层的厚度同时大于绿光发光层的厚度以及蓝光发光层的厚度，使得增加的红光发光层作为红光发光层的部分光学补偿层，有效解决了采用精密MASK蒸镀光学补偿层时容易导致MASK阻塞从而降低有机发光器件的良率的问题。

技术领域

本发明涉及发光器件技术，特别是涉及一种有机电致发光器件。

背景技术

有机电致发光器件OLED通常包括多个像素，每个像素由若干子像素组成。目前，在中小尺寸中广泛应用的是由红、绿、蓝三种像素组成一个像素。相应的，有机电致发光器件的结构中通常包括并排设置的红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层。其中，红光发光层对应红光像素区域，绿光发光层对应绿光像素区域，蓝光发光层对应蓝光像素区域。

由于红光、绿光和蓝光的波长不同，为了保证发光器件的显示效果，需要在发光器件中对绿光发光层和红光发光层进行光学补偿。传统的对绿光发光层和红光发光层进行光学补偿时，通常是采用氧化物，如：ITO(Indium Tin Oxide，掺锡氧化铟)或者有机材料来实现。但是，采用有机材料进行红光发光层和绿光发光层的光学补偿时需要采用精密MASK(掩膜板)进行蒸镀以形成光学补偿层，并且红光补偿层的厚度通常大于60nm。而采用精密MASK进行蒸镀形成光学补偿层时，当量产线长时间蒸镀时很容易在蒸镀过程中阻塞精密MASK，从而影响有机电致发光器件的性能，降低所制备的有机电致发光器件的良率。

发明内容

基于此，有必要针对传统的采用精密MASK蒸镀形成光学补偿层时容易导致精密MASK阻塞从而降低有机发光器件的良率的问题，提供一种有机电致发光器件。

为实现本发明目的提供的一种有机电致发光器件，包括：

阳极；

第一有机功能层，形成于所述阳极上；

发光层，形成于所述第一有机功能层上；

第二有机功能层，形成于所述发光层上；

阴极，形成于所述第二有机功能层上；

其中，所述发光层包括红光发光层、绿光发光层和蓝光发光层；

所述红光发光层的厚度大于所述绿光发光层的厚度，且所述红光发光层的厚度大于所述蓝光发光层的厚度。

在其中一个实施例中，所述红光发光层的结构为双主体结构。

在其中一个实施例中，所述红光发光层的双主体结构通过在所述红光发光层的单主体中增加空穴型第二主体实现；或通过在所述红光发光层的单主体中增加空穴传输材料实现。

在其中一个实施例中，所述红光发光层的厚度大于所述绿光发光层的厚度，且所述红光发光层与所述绿光发光层之间的厚度差为第一预设值；

所述红光发光层的厚度大于所述蓝光发光层的厚度，且所述红光发光层与所述蓝光发光层之间的厚度为第二预设值；

所述第一预设值小于所述第二预设值。

在其中一个实施例中，所述第一预设值的取值范围和所述第二预设值的取值范围均为：20nm-80nm。

在其中一个实施例中，所述红光发光层的厚度为：40nm-100nm；所述绿光发光层的厚度为：10nm-60nm；所述蓝光发光层的厚度为：10nm-40nm。

在其中一个实施例中，所述红光发光层的厚度为60nm-100nm；所述绿光发光层的厚度为30nm-40nm。