[发明专利]一种光催化裂解水制氢用薄膜催化剂及其制备方法和应用在审
申请号: | 201610756508.3 | 申请日: | 2016-08-29 |
公开(公告)号: | CN107774289A | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 郭旺;李国京;黄集权;胡倩倩;邓种华;兰海;陈剑;刘著光;江亚斌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | B01J27/24 | 分类号: | B01J27/24;B01J35/06;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C25B11/06;C25B1/04;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙)11535 | 代理人: | 刘元霞,牛艳玲 |
地址: | 350002 *** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光催化 裂解 水制氢用 薄膜 催化剂 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种光催化裂解水制氢用薄膜催化剂,其特征在于,所述薄膜为N掺杂TiO2薄膜,由排列整齐紧密、取向一致的TiO2纳米棒阵列构成。
优选地,所述TiO2纳米棒为锐钛矿相。
还优选地,所述薄膜为多晶薄膜结构,由不同取向的TiO2单晶纳米棒构成。
2.根据权利要求1所述的催化剂,其特征在于,所述薄膜中N的掺杂量为0.1-5mol%,优选为0.2-4mol%,还优选为0.3-3mol%,更优选为0.35%-2.5mol%。
3.根据权利要求1或2所述的催化剂,其特征在于,所述薄膜的厚度为500-1000nm。
4.一种权利要求1-3任一项所述的光催化裂解水制氢用薄膜催化剂的制备方法,其特征在于,该制备方法属于化学气相沉积法,是通过磁控溅射镀膜系统进行气相反应沉积制备所述薄膜催化剂。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,该制备方法包括以下步骤:
(1)清洗待沉积所述薄膜的基片;
(2)破真空,将载有上述清洗后基片的样品台与待溅射的钛靶装入磁控溅射腔体,调节正负极板间距即样品台与靶枪间的距离;
(3)对基片进行预热处理;
(4)先抽真空,然后关闭样品台挡板,再通入惰性气体作为溅射工作气氛,预溅射钛靶;
(5)通入氧气和氮气作为反应气,调节系统工作气压后,打开样品台挡板,在基片保温条件下,继续溅射钛靶,开始进行所述薄膜的沉积,制备得到所述光催化裂解水制氢用薄膜催化剂。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述基片为玻璃或陶瓷基片,例如石英玻璃、FTO玻璃、AZO玻璃、蓝宝石玻璃或硅片。
优选地,步骤(2)中,所述样品台与靶枪间的距离为90~130mm,例如为110mm。
7.根据权利要求5或6所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述预热处理包括:打开加热电源对基片进行预热,再先后打开机械泵和分子泵抽真空。
8.根据权利要求5-7任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(4)中,抽真空,当系统真空度大于等于5.0×10-3Pa时,关闭样品台挡板,再通入惰性气体(如氩气等)作为溅射工作气氛,将系统总工作气压调节至0.3-1.0Pa(优选0.4-0.7Pa),RF电源的溅射功率调节至50-150W(优选70-120W),预溅射钛靶20-60min(优选30-40min)。
9.根据权利要求5-8任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤(5)中,所述氧气的流量为3-10sccm(优选4-6sccm),所述氮气的流量取决于N的掺杂量。进一步地,除了氧气和氮气外,还通入有氩气;优选地,氩气的流量为20-80sccm(优选30-60sccm,示例性的为40sccm)。
优选地,步骤(5)中,通入氧气和氮气作为反应气,调节系统工作气压为0.3-0.8Pa(例如为0.5Pa)后,打开样品台挡板,基片的温度保持在室温~700℃(例如500-600℃,具体如550℃),继续溅射钛靶,开始进行所述薄膜的沉积,沉积的时间为4~10小时(例如7小时),制备得到所述光催化裂解水制氢用薄膜催化剂。
10.权利要求1-3任一项所述薄膜催化剂的应用,其特征在于,所述催化剂用于光催化裂解水制氢,具体是作为光催化裂解水制氢用光催化剂。
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