[发明专利]镜片防污染装置及方法

权利要求书

1.一种镜片防污染装置，其特征在于，所述镜片防污染装置包括第一装置及相连的第二装置，所述第一装置靠近所述镜片，所述第二装置远离所述镜片；其中，

所述第一装置输出保护层气体，在所述镜片表面形成气帘保护层；

所述第二装置用于对上述保护层气体和/或污染气体的抽排；

其中，所述第一装置包括一个闭合容器，所述闭合容器位于镜片边缘下表面，所述闭合容器为扇环型气帘腔体，并且所述闭合容器的内环侧表面紧贴放置在镜片边缘外侧表面；

其中，所述第二装置包括一个环形腔体，所述环形腔体下表面有若干小孔，所述环形腔体上表面环绕并紧贴在第一装置下表面边缘，所述环形腔体下表面直接面对硅片。

2.如权利要求1所述的镜片防污染装置，其特征在于，所述镜片防污染装置还包括排气通道，所述第一装置和所述第二装置分别连接所述排气通道。

3.如权利要求2所述的镜片防污染装置，其特征在于，所述排气通道带有抽排动力。

4.如权利要求1所述的镜片防污染装置，其特征在于，所述保护层气体是纯度达到或超过99.999％的气体。

5.如权利要求1所述的镜片防污染装置，其特征在于，所述闭合容器带有进气口和喷嘴。

6.如权利要求1所述的镜片防污染装置，其特征在于，所述小孔之间的距离相等。

7.一种根据权利要求1所述的镜片防污染装置的镜片防污染方法，其特征在于，所述镜片防污染方法包括：

步骤1，靠近镜片下表面处输出保护层气体，在所述镜片表面形成气帘保护层；

步骤2，靠近污染源处吸抽上述保护层气体和/或污染气体，并排出至远离镜片的环境；

其中，步骤1中的气帘保护层由位于镜片边缘下表面的扇环型气帘腔输出，并且所述扇环型气帘腔的内环侧表面紧贴放置在镜片边缘外侧表面。

8.如权利要求7所述的镜片防污染方法，其特征在于，在所述步骤1中，所述保护层气体输出在光刻机曝光前至曝光结束后持续进行。

9.如权利要求7所述的镜片防污染方法，其特征在于，在所述步骤2中，所述保护层气体和/或所述污染气体的吸抽及排出在光刻机曝光时至曝光结束后持续进行。