[发明专利]基因测序反应小室

权利要求书

1.一种基因测序反应小室，其特征在于：包括第一基片、第二基片以及试剂回流基片；

所述第二基片具有正面和背面，第二基片的正面上设置有第一凹槽，所述第一凹槽内设置第一试剂回流口和第二试剂回流口；所述第二基片的正面上还设置有试剂入口和试剂出口；

所述第一基片贴合在所述第二基片的正面上，第一基片将所述第一凹槽封闭，所述第一基片与第一凹槽的内壁围合构成反应通道；

所述试剂回流基片贴合在所述第二基片的背面上，所述试剂回流基片与所述第二基片之间形成第一试剂回流区和第二试剂回流区，所述第一试剂回流区用于连通所述的试剂入口和第一试剂回流口，所述第二试剂回流区用于连通所述的第二试剂回流口和试剂出口。

2.根据权利要求1所述的一种基因测序反应小室，其特征在于：所述试剂回流基片设置有两个相互间隔的第二凹槽，其中一个第二凹槽与第二基片的背面围合构成所述的第一试剂回流区，另一个第二凹槽与第二基片的背面围合构成所述的第一试剂回流区。

3.根据权利要求2所述的一种基因测序反应小室，其特征在于：所述试剂回流基片的两个相互间隔的第二凹槽之间设置有用于暴露第二基片背面的通孔。

4.根据权利要求1所述的一种基因测序反应小室，其特征在于：所述第二基片的背面设置有第一连通槽和第二连通槽，所述第一连通槽与所述试剂回流基片围合构成所述的第一试剂回流区，所述第二连通槽与所述试剂回流基片围合构成所述的第二试剂回流区。

5.根据权利要求1所述的一种基因测序反应小室，其特征在于：所述试剂回流基片包括第一试剂回流座和第二试剂回流座；

所述第一试剂回流座上设置有第三凹槽，第一试剂回流座贴合在第二基片的背面上，第三凹槽与第二基片的背面围合构成所述的第一试剂回流区；

所述第二试剂回流座上设置有第四凹槽，第二试剂回流座贴合在第二基片的背面上，第四凹槽与第二基片的背面围合构成所述的第二试剂回流区。

6.根据权利要求5所述的一种基因测序反应小室，其特征在于：所述第一试剂回流座与第二试剂回流座之间预留有暴露第二基片背面的观察窗口。

7.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第一基片具有顶面与底面，第一基片的底面朝向所述的第二基片，且第一基片的底面上设置有用于固定磁珠的硅烷化涂层。

8.根据权利要求7所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第一基片的顶面上设置有加热涂层。

9.根据权利要求8所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述加热涂层为ITO涂层。

10.根据权利要求1-9任一权利要求所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第一基片的材质为玻璃，所述第二基片和试剂回流基片的材质均为PDMS。