[发明专利]物镜像差校正镜及像差校正方法和光学系统、光刻机有效
申请号: | 201610777202.6 | 申请日: | 2016-08-30 |
公开(公告)号: | CN107797218B | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 郭银章 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G02B7/02 | 分类号: | G02B7/02;G02B27/00 |
代理公司: | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 物镜 校正 方法 光学系统 光刻 | ||
1.一种物镜像差校正镜,其特征在于,包括相连的压力控制装置和镜头,所述镜头包括第一平板薄透镜、第二平板薄透镜、镜筒、第一隔圈、第二隔圈、第一压圈和第二压圈,所述第一平板薄透镜和所述第二平板薄透镜沿光线入射方向依次设置在所述镜筒内,所述第一平板薄透镜、所述第二平板薄透镜和所述镜筒的内壁围成填充区域,所述压力控制装置连通所述填充区域,用于调节所述填充区域内的压力,所述第一平板薄透镜靠近所述填充区域的一侧设有与所述镜筒内壁固定连接的所述第一隔圈,所述第二平板薄透镜靠近所述填充区域的一侧设有与所述镜筒内壁固定连接的所述第二隔圈,所述第一平板薄透镜远离所述填充区域的一侧设有与所述镜筒固定连接的所述第一压圈,所述第二平板薄透镜远离所述填充区域的一侧设有与所述镜筒固定连接的所述第二压圈;所述第一隔圈和所述第二隔圈均包括沿周向均匀设置成环状的多个支撑块,所述第一压圈和所述第二压圈均包括沿周向均匀设置成环状的多个压块,所述支撑块与所述压块位置对应,且均设置在与所述光线入射方向平行的轴线上。
2.根据权利要求1所述的物镜像差校正镜,其特征在于,所述压力控制装置包括液管和液压控制装置,所述液管一端连通所述填充区域,另一端连接所述液压控制装置。
3.根据权利要求1所述的物镜像差校正镜,其特征在于,所述第一隔圈和所述第二隔圈均包括两个支撑块,所述第一压圈和所述第二压圈均包括两个压块,所述两个支撑块分设在物镜坐标系的Y轴正向和Y轴负向,或所述两个支撑块分设在所述物镜坐标系的X轴正向和X轴负向。
4.根据权利要求1所述的物镜像差校正镜,其特征在于,所述第一隔圈和所述第二隔圈均包括两个支撑块,所述第一压圈和所述第二压圈均包括两个压块,所述两个支撑块分设在物镜坐标系的第一象限和第三象限,或所述两个支撑块分设在所述物镜坐标系的第二象限和第四象限,且所述两个支撑块与所述物镜坐标系的轴线成45度角。
5.根据权利要求1所述的物镜像差校正镜,其特征在于,所述第一隔圈和所述第二隔圈均包括三个支撑块,所述第一压圈和所述第二压圈均包括三个压块,所述三个支撑块中的一个支撑块位于物镜坐标系的X轴上。
6.根据权利要求1所述的物镜像差校正镜,其特征在于,所述第一隔圈和所述第二隔圈均包括三个支撑块,所述第一压圈和所述第二压圈均包括三个压块,所述三个支撑块中的一个支撑块位于物镜坐标系的Y轴上。
7.根据权利要求1所述的物镜像差校正镜,其特征在于,所述第一隔圈和所述第二隔圈均包括四个支撑块,所述第一压圈和所述第二压圈均包括四个压块,所述四个支撑块分设在物镜坐标系的X轴正向、X轴负向、Y轴正向及Y轴负向上。
8.根据权利要求1所述的物镜像差校正镜,其特征在于,所述第一隔圈和所述第二隔圈均包括四个支撑块,所述第一压圈和所述第二压圈均包括四个压块,所述四个支撑块分设在物镜坐标系的四个象限中,且所述四个支撑块与所述物镜坐标系中的轴线成22.5度角。
9.根据权利要求1所述的物镜像差校正镜,其特征在于,所述第一平板薄透镜与所述镜筒之间以及所述第二平板薄透镜与所述镜筒之间采用密封软胶密封。
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