[发明专利]一种新型润滑粉粉碎组件在审
申请号: | 201610777997.0 | 申请日: | 2016-08-31 |
公开(公告)号: | CN107790222A | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 李国英;杨士娟 | 申请(专利权)人: | 天津市弘亚润滑粉制造有限公司 |
主分类号: | B02C7/08 | 分类号: | B02C7/08;B02C7/12;B02C7/11 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 301713 天*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 润滑 粉碎 组件 | ||
技术领域
本发明涉及润滑粉的制造技术领域,尤其涉及一种新型润滑粉粉碎组件。
背景技术
生产钢丝或焊丝等线材中需要进行拉拔工序,拉拔过程中,模具内壁与线材表面会产生强烈摩擦和大量热量,为提高拉拔后钢丝的表面质量,拉拔过程需用润滑粉对线材表面涂抹,使其在模具内壁与线材表面之间起到润滑、降温作用。常见的润滑粉的生产过程中,使用搅拌轴上的搅拌叶对较大颗粒的润滑粉原料进行粉碎,之后粉碎后的不同原料进行混合形成复合润滑粉。但搅拌轴这种粉碎方式生成的润滑粉颗粒不均匀,影响润滑粉与线材之间的结合力,影响润滑粉的性能。
发明内容
本发明要解决的问题是现有的搅拌轴这种粉碎方式生成的润滑粉颗粒不均匀,影响润滑粉的性能。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:提供一种新型润滑粉粉碎组件。所述新型润滑粉粉碎组件,包括固定盘和位于固定盘下方的研磨盘;所述固定盘上设有进料口,所述进料口自固定盘的上表面延伸至固定盘的下表面;所述研磨盘的下方固定设有一旋转轴,所述旋转轴带动研磨盘绕固定盘的轴向旋转。
优选地,所述研磨盘的上表面为内凹形,其边缘高于中心;所述固定盘的下表面为与研磨盘相配合的下凸形。
优选地,所述研磨盘的上表面的中心区域设有定位柱,固定盘的下表面上设有与定位柱相配合的定位槽。
进一步地,所述研磨盘的上表面上设有若干沿研磨盘的中心均匀分布的弧形凸缘,所述凸缘自定位柱延伸至研磨盘的边缘。
进一步地,还包括套装在研磨盘外的防护套,所述防护套的上边缘高于研磨盘的上边缘,防护套的下端与研磨盘之间设有过滤网。
优选地,所述旋转轴的外侧设有隔离套,所述隔离套与研磨盘的下表面固定连接。
优选地,所述进料口为螺旋状,所述进料口至少为一个。
本发明具有的优点和积极效果是:
1.本发明提供的润滑粉的粉碎组件,结构简单,配置方便,通过研磨盘的转动在研磨盘与固定盘之间粉碎润滑粉,粉碎后的润滑粉粒径均匀,有效提高了润滑粉的润滑性能。
2.本发明中,研磨盘的上表面采用内凹性,使其上的润滑粉原料更充分地受到研磨。同时,在研磨盘的上表面上还设有凸缘,可根据需求设置不同规格的凸缘,提高了研磨效率。
3.本发明中还设有防护套和滤网,防止粉碎过程中粉尘的四散,同时,初步过滤润滑粉,减轻了后续工序的繁琐程度。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
图2是本发明的分解示意图。
图3是本发明中研磨盘的俯视示意图。
图中:1-固定盘,101-进料口,102-固定轴,103-辅助架,104-定位槽,2-研磨盘,201-旋转轴,202-隔离套,203-定位柱,204-凸缘,3-防护套,301-滤网。
具体实施方式
为了更好的理解本发明,下面结合具体实施例和附图对本发明进行进一步的描述。
如图1-图3所示,一种新型润滑粉粉碎组件,包括固定盘1、研磨盘2和防护套3。
固定盘1上设有进料口101。进料口101至少为一个,其自固定盘101的上表面螺旋延伸至固定盘101的下表面。固定盘1的上表面上设有与支架连接的固定轴102,固定盘的侧面上对称设有辅助架103,进一步稳固固定盘。
研磨盘2设置在固定盘1的下方。研磨盘2的上表面为内凹形,其边缘高于中心,固定盘1的下表面为与研磨盘1相配合的下凸形。研磨盘2的上表面的中心区域设有定位柱203,固定盘1的下表面上设有与定位柱203相配合的定位槽104。定位槽104略大于定位柱203,定位柱203可在定位槽104内自由旋转。研磨盘2的上表面上设有若干沿研磨盘2的中心均匀分布的弧形凸缘204,凸缘204自定位柱203延伸至研磨盘2的边缘,进一步增大研磨盘2与固定盘1之间摩擦力,可设置不同尺寸的凸缘204满足不同润滑粉的粒径需求。研磨盘2的下方固定设有一旋转轴201,旋转轴201带动研磨盘2绕固定盘1的轴向旋转。旋转轴201的外侧设有隔离套202,隔离套202与研磨盘2的下表面固定连接。
防护套3套装在研磨盘2外的,防护套3的上边缘高于研磨盘2的上边缘,防止粉碎过程中粉末的飞溅。防护套3的下端与研磨盘2之间设有过滤网301。
以上对本发明的实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本发明的较佳实施例,不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本专利涵盖范围之内。
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