[发明专利]一种制备莨纱绸的晒莨工艺及晒莨装置有效

专利信息
申请号: 201610790895.2 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106192271B 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: 周晓刚 申请(专利权)人: 周晓刚
主分类号: D06B21/00 分类号: D06B21/00;D06B15/00;D06B23/22;D06B23/18
代理公司: 佛山市广盈专利商标事务所(普通合伙)44339 代理人: 杨乐兵
地址: 528300 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 制备 莨纱绸 工艺 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及涉及莨纱绸制备技术,尤其是涉及一种制备莨纱绸的晒莨工艺及晒莨装置。

背景技术

莨纱绸是将纱或绸的织物用一种植物叫薯莨(Dioscorea cirrhosa Lour)的块茎汁液多次进行浸渍、晾晒后,使织物附着一层黄棕色的胶状物,再用含有高价铁离子的塘泥均匀涂覆于织物表面,反复多次晾晒、水洗后制成正面黑色、底面咖啡色的面料的植物的汁液染过后,就成了莨纱和莨绸。

在莨丝绸生产过程中,光照起到了非常重要的作用。经过阳光的照射,莨丝绸的黑色才更加自然、富有光泽。因晒莨工艺对光照强度要求极为严格,因此,阳光的强弱决定了一年中莨绸生产的时间。每年只在4月中旬~10月底开工,只有这个时期的阳光强度适合晒莨,生产者几乎每天起早贪黑劳作。每年的7月~8月上旬(即农历的小暑节气至立秋节气)由于阳光过于强烈,气温又过高,生产的莨丝绸会变硬变脆。而11月以后,因北方干燥的季风南下,也不宜晒莨。同样,晒莨过程中也需要根据阳光强度、气温、空气湿度、风量等环境因素,利用经验决定晒莨的时间长短,晒莨时间过短则莨丝绸的上色较差,晒莨时间过长则也容易出现莨丝绸变硬变脆。

由此可见,现有采用传统手艺工艺制备莨纱绸过程中,晒莨工艺受限于诸多条件:①晒莨时机需要受限于天气,一年中可以晒莨操作的天气不多;②晒莨时间受限于工艺师傅按经验根据光照强度、湿度、风量等环境所确定,偏差较大,容易使莨丝绸的品质不均一;③由于自然条件的限制,制造出的产品的达标率(按莨绸的国家标准GB/T 22856-2009)相对较低。

发明内容

为克服现有技术的缺陷,本发明提出一种制备莨纱绸的晒莨工艺及晒莨装置,在晒莨装置中用紫外线或/和红外线替代自然光照,晒莨的环境参数可控,有利于提高制备莨纱绸的生产效率及产品质量。

一种制备莨纱绸的晒莨工艺,包括步骤:

(1)浸染步骤,将平展的织物在薯莨汁中充分浸泡,对织物进行均匀染色至少20分钟;织物为丝绸织物、植物纤维织物或蛋白纤维织物;

(2)预热步骤,从平展织物上下两侧等距离或仅单侧利用加热装置加热2-3分钟使织物上薯莨汁的水分部分蒸发,预热温度为38℃~42℃;

(3)照射步骤,从织物上下两侧等距离或仅单侧利用紫外线和/或红外线均匀照射织物,照射时间10~15分钟,织物表面的紫外线和/或红外线照射强度10~20μW/cm2

(4)均匀润湿步骤,从织物上下两侧等距离均匀喷洒蒸汽对织物进行润湿处理;

(5)降温步骤,从织物上下两侧对织物进行均一降温处理;

(6)重复染晒,按需重复步骤(1)~步骤(5),重复次数10~20次;

(7)后续处理,卷绸、入库。

进一步地,照射织物的照射时间12分钟,织物上的紫外线照射强度15μW/cm2

进一步地,预热温度为40℃。

进一步地,步骤(1)-步骤(5)的重复次数15次。

一种所述制备莨纱绸的晒茛工艺的晒茛装置,包括箱体,该箱体两侧相对地平行设有导轨,在导轨上滑动设置有水平移动装置,织物平展地夹在两侧的水平移动装置中,该箱体依次包括预热工位、照射工位、均匀润湿工位、降温工位,各工位均有封闭的箱体空间;

各工位包括工作装置,所述工作装置包括设置在箱体顶部的上工作装置和/或设置在箱体底部的下工作装置,所述上工作装置和下工作装置到丝绸织物的距离相等;

所述预热工位的上工作装置两侧分别设有排气口,照射工位的上工作装置两侧分别设有前排气口和后进气口;所述预热工位、照射工位的箱体壁上分别设有温度传感器和湿度传感器,以确保箱体内恒定的工作温度和工作湿度。

进一步地,在预热工位前还设有浸染工位,所述浸染工位包括竖直导轨、分段导轨,所述分段导轨滑动设置在竖直导轨上;所述浸渍工位的箱体设置在浸染池内,所述浸染池底部设有搅拌器。

进一步地,所述水平移动装置包括滑动块,所述滑动块上间隔设有多个弹性伸缩件,每个弹性伸缩件连接一弹簧夹,织物夹持在弹簧夹中;导轨包括导轨本体,导轨本体上设有导轨条,导轨本体上还间隔设有多个导滑槽,所述弹簧夹滑动设置在导滑槽中。

进一步地,所述预热工位的工作装置为加热装置,所述加热装置为电热棒;所述照射工位的工作装置为具有多个紫外线发光二极管阵列的紫外线照射装置或者具有多个红外线发光二极管阵列的红外线照射装置。

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