[发明专利]栅网及离子源

权利要求书

1.一种栅网，用于离子源的离子光学系统，其特征在于，所述栅网设有带栅孔的栅孔区，所述栅网上自栅孔区边缘向外呈辐射状开设有多个热应变槽，且所述热应变槽贯穿所述栅网上下表面；

所述热应变槽的数量n通过以下公式计算：

n＝5.705ln(d)-7.225；n取整数值；

其中d为栅网的直径；

所述热应变槽在所述栅网的周向上等间隔设置。

2.根据权利要求1所述的栅网，其特征在于，所述热应变槽的数量为2～50个。

3.根据权利要求1或2所述的栅网，其特征在于，所述热应变槽为方形槽，该方形槽的长为15～20mm，宽为0.2～2mm。

4.根据权利要求1或2所述的栅网，其特征在于，所述热应变槽为锯齿形槽，该锯齿形槽的长度为15～20mm，锯齿的齿间距为0.2～2mm。

5.根据权利要求1或2所述的栅网，其特征在于，所述栅网的厚度为0.1～1mm。

6.一种离子源，所述离子源包括双栅离子光学系统或三栅离子光学系统，其特征在于，所述双栅离子光学系统或三栅离子光学系统采用权利要求1～5中任一项所述的栅网实现。

7.根据权利要求6所述的离子源，其特征在于，所述双栅离子光学系统或三栅离子光学系统中相邻两片栅网上热应变槽的位置相对错开。