[发明专利]一种高石英陶瓷及其制备方法

权利要求书

1.一种高石英陶瓷，包括坯料和釉料，所述坯料包括如下质量份数的组分：

SiO₂ 72-77份

Al₂O₃ 13-19份

MgO 1-3份；

所述釉料包括如下质量份数的组分：

2.根据权利要求1所述的高石英陶瓷，其特征在于，所述坯料包括如下质量份数的组分：

SiO₂ 73-75份

Al₂O₃ 14-16份

MgO 2-2.5份。

3.根据权利要求1或2所述的高石英陶瓷，其特征在于，所述釉料包括如下质量份数的组分：

4.根据权利要求3所述的高石英陶瓷，其特征在于，所述釉料还包括如下质量份数的组分：

Fe₂O₃ 0.05-0.1份

TiO₂ 0.001-0.003份。

5.一种权利要求1-4中任一项所述的高石英陶瓷的制备方法，其特征在于，包括如下步骤:

1)制备坯料和釉料：按所述坯料中各组分含量选择原料进行研磨，制得第一研磨料，再将所述第一研磨料经过筛、除铁、榨泥、练泥、陈腐后，制得所述坯料，备用；按所述釉料中各组分含量选择原料进行研磨，制得第二研磨料，再将所述第二研磨料经过筛、除铁后，制得所述釉料，备用；

2)对所述坯料进行成型处理，制得胚体；采用所述釉料对所述胚体上釉，制得釉坯；

3)对所述釉坯进行烧成处理，制得所述高石英陶瓷。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中，所述第一研磨料为出磨细度325目筛余0.5～1％的筛下料；

所述第二研磨料为出磨细度325目筛余0.1～0.2％的筛下料。

7.根据权利 要求5或6所述的制备方法，其特征在于，步骤3)中，所述烧成处理步骤的温度为1290-1310℃。

8.根据权利 要求7所述的制备方法，其特征在于，步骤3)中，所述烧成处理步骤是在隧道窑或辊道窑中进行；

所述烧成处理步骤是采用天然气氧化焰进行烧成的。

9.根据权利 要求5或6所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中，所述原料选自精洗高岭土、原矿高岭土、石英、滑石和腐植酸钠中的至少一种，其中，所述精洗高岭土中SiO₂质量含量在48-52％、Al₂O₃质量含量在30-35％、K₂O质量含量在3.5-4.0％、Na₂O质量含量在0.45-0.5％、MgO质量含量在0.20-0.25％；

所述原矿高岭土中SiO₂质量含量在65-70％、Al₂O₃质量含量在20-25％、K₂O质量含量在0.5-0.7％、Na₂O质量含量在0.5-1％、MgO质量含量在0.1-0.15％；

所述石英中SiO₂质量含量不小于98％；

所述滑石中SiO₂质量含量在62-67％、CaO质量含量在3-3.5％、K₂O质量含量在0.15-0.2％、MgO质量含量在30-35％；

步骤2)中，在上釉之前，还包括对所述胚体进行干燥和修坯的步骤。