[发明专利]一种适用于轴承套圈的淬火处理方法有效

专利信息
申请号: 201610793842.6 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106119512B 公开(公告)日: 2018-01-12
发明(设计)人: 车德礼;杜善亮 申请(专利权)人: 瓦房店正达冶金轧机轴承有限公司
主分类号: C21D9/40 分类号: C21D9/40;C21D1/20;C21D11/00
代理公司: 北京高沃律师事务所11569 代理人: 李娜
地址: 116300 辽宁省大连*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 轴承 淬火 处理 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及机械加工技术领域,特别是涉及一种适用于轴承套圈的淬火处理方法。

背景技术

随着人类文明的不断进化和科学技术的高速发展,轴承工业从弱小起步,艰难创业,激烈竞争,曲折发展,由昔日少数几家小厂发展到现今遍布全球、年销量额达300亿美元的规模,取得了惊人的成就。

通常按轴承中滚动体种类的不同,将其分为球轴承和滚子轴承,并按轴承所能承受载荷的主要作用方向分为向心轴承和推力轴承。

目前,轴承淬火常用的液体包括淬火液以及淬火油,其普遍工艺为:首先对工件进行热处理;然后再使用淬火液或者淬火油进行淬火;淬火后由于工件存在变形,所以必须对工件先量形、后整形,经整形的成品带顶子回火;回火后再卸顶子,量形合格后再回火定形。这样工艺流程可简化为:等温淬火→量变形→撑低点整形→带顶子回火→回火后卸顶子→再量形→交下工序。传统方法中,其是利用大型套圈的自身重力,用企业自制工装挂低点,在淬火液或者淬火油中进行组织转变,在该过程中达到自整形。

传统的淬火工艺存在的问题为:整形时间长,并且工艺过程中费时、费力和费电。

发明内容

本发明的目的是提供一种适用于轴承套圈的淬火处理方法,以解决上述现有技术存在的问题。

为实现上述目的,本发明提供了如下方案:本申请提供了一种适用于轴承套圈的淬火处理方法,包括:

步骤一、对待处理的轴承套圈进行一次加热:将待处理的轴承套圈加热到Ac1+20℃至Ac1+60℃,并保温8-15min;

步骤二、对一次加热后的轴承套圈进行淬火:利用盐浴对高温轴承套圈进行等温淬火;

步骤三、对淬火后的轴承套圈进行尺寸测量:对淬火后的轴承套圈的底部边缘进行高度测量,确定轴承套圈底部边缘的最低点并定义该点为固定点;

步骤四、对轴承套圈进行二次加热:利用工装钩住轴承套圈的固定点并将其固定后,将轴承套圈置于盐浴内等温加热,其等温加热温度为160℃±10℃,加热时间为2~4h;

步骤五、对二次加热后的轴承套圈进行尺寸测量:对二次加热后的轴承套圈再次进行底部边缘的高度测量,然后重新确定轴承套圈底部边缘的最低点,利用工装固定该最低点后利用盐浴进行三次加热,三次加热温度为160℃±10℃,加热时间为2~4h。

优选地,在所述步骤一中,将待处理的轴承套圈平放,然后利用工装对待处理的轴承套圈的底部边缘进行固定,之后对其进行一次加热。

具体地,在本发明中:

步骤一、对待处理的轴承套圈进行一次加热:将待处理的轴承套圈加热到Ac1+30℃之后保温9min;

步骤二、对一次加热后的轴承套圈进行淬火:利用盐浴对轴承套圈进行等温淬火;

步骤三、对淬火后的轴承套圈进行尺寸测量:对淬火后的轴承套圈的底部边缘进行高度测量,确定轴承套圈底部边缘的最低点并定义该点为固定点,之后确定轴承套圈底部边缘的次低点并定义该点为辅助点;

步骤四、对轴承套圈进行二次加热:利用工装钩住轴承套圈的固定点以及辅助点对轴承套圈固定后,将轴承套圈置于盐浴内等温加热,其等温加热温度为160℃,加热时间为2.5h;

步骤五、对二次加热后的轴承套圈进行尺寸测量:对二次加热后的轴承套圈的底部边缘再次进行高度测量,然后重新确定轴承套圈底部边缘的最低点,利用工装固定该最低点后利用盐浴进行三次加热,三次加热温度为160℃,加热时间为2h。

根据本发明提供的具体实施例,本发明公开了以下技术效果:

在本发明中,工件通过加热、测量、加热、测量两种工艺的重复进行,利用工装勾住轴承套圈上变形最大的地方,在轴承套圈加热后,利用轴承套圈的自身重量产生形变,达到自整形的目的。本发明与现有技术相比,具有以下突出优点和积极效果:上述方法简化了工艺过程,改变原有的整形工艺,而是采用工装吊装轴承套圈,利用反复加热的方式使得轴承套圈在自身重量的作用下达到自增性的目的。另外,本发明还对轴承套圈的加热方式进行了改进,使其在加热时产生的形变较小、内应力较小,可较大程度地提高轴承套圈的硬度以及韧性。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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