[发明专利]选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法

权利要求书

1.一种选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法，其特征在于：利用半导体铁电材料中的铁电场诱导表面带电属性的差异，导致带负电性的酸根离子优先选择性地吸附在带正电荷表面的特点，将半导体铁电材料放入含有刻蚀性酸的水溶液中，通过水热处理过程实现对铁电材料表面的选择性刻蚀，在铁电基体材料表面定向构筑异质结构。

2.按照权利要求1所述的选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法，其特征在于：所述的铁电材料为各种三元或三元以上金属化合物铁电材料。

3.按照权利要求1所述的选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法，其特征在于：优选的，所述的铁电材料为钛酸铅、钛酸钡或铁酸铋。

4.按照权利要求1所述的选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法，其特征在于：所述的刻蚀性酸为各种无机酸或其混合酸溶液。

5.按照权利要求1所述的选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法，其特征在于：优选的，所述的刻蚀性酸为氢氟酸、盐酸、硫酸、硝酸之一或两种以上混合。

6.按照权利要求1所述的选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法，其特征在于：所述的刻蚀性酸水溶液中，酸的摩尔浓度为0.1mM～5M。

7.按照权利要求1所述的选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法，其特征在于：所述的水热处理温度为30℃～300℃，水热处理时间为10min～96h。