[发明专利]一种静电卡盘和半导体处理装置有效
申请号: | 201610804584.7 | 申请日: | 2016-09-07 |
公开(公告)号: | CN107799453B | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
发明(设计)人: | 周娜 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01J37/32 |
代理公司: | 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 彭瑞欣;罗瑞芝 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 静电 卡盘 半导体 处理 装置 | ||
1.一种静电卡盘,包括静电卡盘基体和设置在所述静电卡盘基体内部的顶针组件,所述顶针组件能升起和下降,以将置于所述静电卡盘基体上的晶片顶起和降下,其特征在于,所述顶针组件包括设置在所述静电卡盘基体的边缘区域和中心区域呈大小不等的正三角形分布的顶针,且所述正三角形的中心与所述静电卡盘基体的中心对应重合;
所述顶针包括对应分布在所述静电卡盘基体边缘区域的三个第一顶针和对应分布在所述静电卡盘基体中心区域的三个第二顶针;
三个所述第一顶针分布呈正三角形;三个所述第二顶针分布呈正三角形;
所述第一顶针与所述静电卡盘基体的外缘的径向距离范围为1.5-2.5mm。
2.根据权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,三个所述第二顶针分别位于三个所述第一顶针形成的正三角形的各边中点上。
3.根据权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,三个所述第二顶针分别位于三个所述第一顶针形成的正三角形的各边的内侧,且分别位于所述第一顶针形成的正三角形的中心与各边中点的连线上。
4.根据权利要求1所述的静电卡盘,其特征在于,三个所述第二顶针分别位于三个所述第一顶针形成的正三角形的各边的外侧,且分别位于所述第一顶针形成的正三角形的中心与各边中点连线的延长线上。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的静电卡盘,其特征在于,所述静电卡盘基体与所述晶片的大小形状相同,且中心对应重合。
6.一种半导体处理装置,其特征在于,包括权利要求1-5任意一项所述的静电卡盘。
7.根据权利要求6所述的半导体处理装置,其特征在于,还包括机械手,用于将晶片从所述静电卡盘上取下,所述机械手的形状呈排叉状或半环形。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司,未经北京北方华创微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610804584.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造