[发明专利]具有功能层的模制品、其制造方法及用途

权利要求书

1.一种模制品，该模制品具有针对热熔粘合剂和/或分散粘合剂的反磨损的非粘性涂层，能够如下制造该模制品：

在存在过程气体和离子化气体的条件下，在存在有机前体或有机硅前体的条件下，在具有钨铜自由射流喷嘴的等离子处理设备中利用等离子体来处理未涂层的模制品，该设备中：所述钨铜自由射流喷嘴直径为～4mm，具有带有～300W有效功率的目标通道的脉冲交流电弧放电，其中有效功率的有效电压为～1kV，有效电流为0.3A；且每周期～2脉冲，其中峰值电压为～3.8kV并且脉宽为～1.4μs，容许偏差为+/-25％；并且等离子电压为280V，等离子频率21KHz，等离子周期时间10-20％，

其中，所述有机前体从包括甲烷、乙烷和乙炔的组群选择，所述有机硅前体是聚二甲基硅氧烷，所述等离子体是常压等离子体。

2.根据权利要求1所述的模制品，其特征在于，所述模制品是工具。

3.根据权利要求2所述的模制品，其特征在于，所述工具是盖装置或缝纫刀具。

4.根据权利要求1所述的模制品，其特征在于，所述等离子体实施为带有等离子体辅助化学气相沉积的涂层。

5.根据权利要求1所述的模制品，其特征在于，从包括氧气、氮气、气体混合物和惰性气体的组群中选择离子化气体。

6.根据权利要求5所述的模制品，其特征在于，从包括空气、和氮氢混合气体的组群中选择气体混合物。

7.根据权利要求6所述的模制品，其特征在于，所述空气为压缩空气。

8.根据权利要求5所述的模制品，其特征在于，所述惰性气体是氩气。

9.根据权利要求5所述的模制品，其特征在于，所述离子化气体是氮气，并且以～1500L/h的速率馈送到等离子室，并且前体是乙炔，该前体以～38L/h的速率供给到等离子室中，其中，从喷嘴出口到基材的距离在5至10mm的范围内，并且实施为在喷气速度在5至10m/min的范围内的情况下的平面的、曲折状的具有从1至4mm范围内的层厚度的涂层。

10.根据权利要求1所述的模制品，其特征在于，所述离子化气体是压缩空气，并且以～1500L/h的速率供给到等离子室中，并且所述前体是六甲基二硅醚，该前体以～30g/h的速率供给到等离子室中，其中从喷嘴出口到基材的距离在5至10mm的范围内，并且实施为在喷气速度在20至80m/min的范围内的情况下的平面的、曲折状的具有从1至4mm的范围内的层厚度的涂层。

11.根据权利要求1所述的模制品，其特征在于，在进一步的反应步骤中在200℃下进行历时1.5h的退火。

12.一种制造模制品的方法，该模制品是根据权利要求1至11之一所述的具有针对热熔粘合剂和/或分散粘合剂的反磨损的非粘性涂层，所述方法包括以下工艺步骤：

在存在过程气体和离子化气体的条件下，在存在有机前体或有机硅前体的条件下，在具有钨铜自由射流喷嘴的等离子处理设备中利用等离子体来处理未涂层的模制品，该设备中：所述钨铜自由射流喷嘴的直径为～4mm，具有带有～300W有效功率的目标通道的脉冲交流电弧放电，其中有效功率的有效电压为～1kV，有效电流为0.3A；每周期～2脉冲，其中峰值电压～3.8kV并且脉宽为～1.4μs，容许偏差为+/-25％；并且等离子电压为280V，等离子频率21KHz，等离子周期时间10-20％，

其中，所述有机前体从包括甲烷、乙烷和乙炔的组群选择，所述有机硅前体是聚二甲基硅氧烷，在所述方法中使用的等离子体是常压等离子体。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，在所述方法中借助等离子体辅助化学气相沉积来实施涂层。