[发明专利]一种晶元清洗装置

权利要求书

1.一种晶元清洗装置，其特征在于，包括：清洗槽；晶元架，用于承载晶元；循环装置，用于循环利用清洗液；在线检测装置，用于实时检测清洗液中有效成分的浓度；以及自动加液装置，用于滴加清洗液；所述清洗槽包括内槽和外槽；所述外槽底部设置有超声波发生单元，内槽底部设置超声波震荡单元；所述晶元架设置在所述超声波震荡单元上，且跟随所述超声波震荡单元震动。

2.根据权利要求1所述的晶元清洗装置，其特征在于，所述内槽的高度大于晶元架的高度。

3.根据权利要求1或2项所述的晶元清洗装置，其特征在于，所述内槽设有一个或多个溢水孔。

4.根据权利要求3所述的晶元清洗装置，其特征在于，所述溢水孔的位置高于晶元架的顶部。

5.根据权利要求1或2项所述的晶元清洗装置，其特征在于，所述内槽和外槽底部均设有排液孔，所述内槽底部设有进液孔。

6.根据权利要求1所述的晶元清洗装置，其特征在于，所述循环装置包括压力泵、过滤装置。

7.根据权利要求6所述的晶元清洗装置，其特征在于，还包括加热装置。

8.根据权利要求1所述的晶元清洗装置，其特征在于，所述自动加液装置设置有一条初始加液管路和一条补充加液管路。

9.根据如权利要求1所述的晶元清洗装置，其特征在于，所述自动加液装置包括用于储存所述清洗液的有效成分的原料储罐，每个所述原料储罐储存一种所述清洗液的有效成分。