[发明专利]激光加工系统有效

专利信息
申请号: 201610826068.4 申请日: 2016-09-14
公开(公告)号: CN107030375B 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 和泉贵士 申请(专利权)人: 发那科株式会社
主分类号: B23K26/00 分类号: B23K26/00;B23K26/70
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 激光 加工 系统
【权利要求书】:

1.一种激光加工系统,具备:

激光振荡器,其振荡出激光;

激光光路,其将所述激光从所述激光振荡器引导至被加工物;

设置于所述激光光路内的氧传感器和杂质气体传感器,所述氧传感器检测氧,所述杂质气体传感器检测对所述激光的传播产生影响的杂质气体;

杂质气体传感器输出值校正部,其基于所述氧传感器的输出值来校正所述杂质气体传感器的输出值;以及

杂质气体混入判定部,该杂质气体混入判定部基于由所述杂质气体传感器输出值校正部校正后的所述杂质气体传感器的输出值与预先存储的判定阈值之间的比较,来判定所述激光光路内是否混入了所述杂质气体。

2.根据权利要求1所述的激光加工系统,其特征在于,

具备至少两个探测浓度不同的所述杂质气体传感器。

3.根据权利要求1或2所述的激光加工系统,其特征在于,

具备至少两个所探测的气体种类不同的所述杂质气体传感器。

4.根据权利要求1或2所述的激光加工系统,其特征在于,

还具备通知装置,在由所述杂质气体混入判定部判定为所述激光光路内混入了所述杂质气体的情况下,该通知装置通知混入了所述杂质气体。

5.根据权利要求1或2所述的激光加工系统,其特征在于,还具备:

杂质气体吸附剂,其吸附所述杂质气体;以及

曝露功能部,在由所述杂质气体混入判定部判定为所述激光光路内混入了所述杂质气体的情况下,该曝露功能部将所述杂质气体吸附剂曝露在所述激光光路内。

6.根据权利要求1或2所述的激光加工系统,其特征在于,

还具备存储部,该存储部将所述杂质气体传感器和所述氧传感器各自的输出值与该输出值被输出的日期时间一起存储。

7.根据权利要求1或2所述的激光加工系统,其特征在于,

装卸自如的传感器单元设置于所述激光光路,

所述传感器单元具有所述氧传感器和一个以上的所述杂质气体传感器。

8.根据权利要求1或2所述的激光加工系统,其特征在于,

具备向所述激光光路内供给吹扫气体的吹扫气体供给线,所述吹扫气体是通过高分子过滤器、活性炭过滤器、中空纤维过滤器、或油雾过滤器后向所述激光光路内供给的空气。

9.根据权利要求1或2所述的激光加工系统,其特征在于,

所述氧传感器或所述杂质气体传感器是定电位电解式气体传感器、伽伐尼电池式气体传感器、接触燃烧式气体传感器、气体热传导式气体传感器、氧化锆式气体传感器、极化式气体传感器、或半导体式气体传感器。

10.一种激光加工系统,具备:

激光振荡器,其振荡出激光;

激光光路,其将所述激光从所述激光振荡器引导至被加工物;

设置于所述激光光路内的氧传感器和至少两个所探测的气体种类不同的杂质气体传感器,所述氧传感器检测氧,所述杂质气体传感器检测对所述激光的传播产生影响的杂质气体;以及

杂质气体传感器输出值校正部,其基于所述氧传感器的输出值来校正所述杂质气体传感器的输出值。

11.一种激光加工系统,具备:

激光振荡器,其振荡出激光;

激光光路,其将所述激光从所述激光振荡器引导至被加工物;

设置于所述激光光路内的氧传感器和杂质气体传感器,所述氧传感器检测氧,所述杂质气体传感器检测对所述激光的传播产生影响的杂质气体;以及

杂质气体传感器输出值校正部,其基于所述氧传感器的输出值来校正所述杂质气体传感器的输出值,

其中,装卸自如的传感器单元设置于所述激光光路,

所述传感器单元具有所述氧传感器和一个以上的所述杂质气体传感器。

12.一种激光加工系统,具备:

激光振荡器,其振荡出激光;

激光光路,其将所述激光从所述激光振荡器引导至被加工物;

设置于所述激光光路内的氧传感器和杂质气体传感器,所述氧传感器检测氧,所述杂质气体传感器检测对所述激光的传播产生影响的杂质气体;

杂质气体传感器输出值校正部,其基于所述氧传感器的输出值来校正所述杂质气体传感器的输出值;以及

向所述激光光路内供给吹扫气体的吹扫气体供给线,

其中,所述吹扫气体是通过高分子过滤器、活性炭过滤器、中空纤维过滤器、或油雾过滤器后向所述激光光路内供给的空气。

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